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1. (WO2014100707) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE COMMANDE DE DIFFUSION DE PHONON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/100707    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/077191
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 20.12.2013
CIB :
H01L 31/054 (2014.01), H01L 31/18 (2006.01), B82Y 40/00 (2011.01)
Déposants : THE TRUSTEES OF BOSTON COLLEGE [US/US]; 140 Commonwealth Avenue Chestnut Hill, Massachusetts 02467 (US)
Inventeurs : KEMPA, Krzysztof J.; (US).
NAUGHTON, Michael J.; (US)
Mandataire : DYKEMAN, David J.; Greenberg Traurig, LLP One International Place Boston, Massachusetts 02110 (US)
Données relatives à la priorité :
61/740,061 20.12.2012 US
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR CONTROLLING PHONON-SCATTERING
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE COMMANDE DE DIFFUSION DE PHONON
Abrégé : front page image
(EN)Structures and methods for controlling phonon-scattering are provided. In some embodiments, a metamaterial structure comprises a light absorbing layer (16) capable of absorbing solar energy and converting the absorbed energy into electrical current, a first patterned layer (14) disposed on a light absorbing surface of the light absorbing layer (16), the first patterned layer (14) being configured to increase light absorption in the light absorbing layer (16), and a second patterned layer (60) disposed in proximity to the light absorbing layer (16), the second patterned layer (60) being configured to control phonon- scattering by storing or protecting the hot electron energy in the light absorbing layer (16).
(FR)L'invention concerne des structures et des procédés de commande de diffusion de phonon. Selon certains modes de réalisation, une structure de méta-matériau comprend une couche d'absorption de lumière (16) apte à absorber une énergie solaire et à convertir l'énergie absorbée en un courant électrique, une première couche à motifs (14) disposée sur une surface d'absorption de lumière de la couche d'absorption de lumière (16), la première couche à motifs (14) étant configurée pour augmenter une absorption de lumière dans la couche d'absorption de lumière (16), et une seconde couche à motifs (60) disposée à proximité de la couche d'absorption de lumière (16), la seconde couche à motifs (60) étant configurée pour commander une diffusion de phonon par stockage ou protection de l'énergie d'électron chaud dans la couche d'absorption de lumière (16).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)