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1. (WO2014100506) GRILLE POUR IMPLANTATION IONIQUE PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/100506    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/076741
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 19.12.2013
CIB :
G21K 5/04 (2006.01), G21K 5/10 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01), H01L 21/266 (2006.01), H01L 21/425 (2006.01), H01L 21/426 (2006.01)
Déposants : INTEVAC, INC. [US/US]; 3560 Bassett Street Santa Clara, CA 95054 (US).
PRABHAKAR, Vinay [IN/US]; (US).
ADIBI, Babak [US/US]; (US)
Inventeurs : PRABHAKAR, Vinay; (US).
ADIBI, Babak; (US)
Mandataire : BACH, Joseph; Nixon Peabody LLP P.o. Box 60610 Palo Alto, CA 94306 (US)
Données relatives à la priorité :
61/739,676 19.12.2012 US
61/869,022 22.08.2013 US
Titre (EN) GRID FOR PLASMA ION IMPLANT
(FR) GRILLE POUR IMPLANTATION IONIQUE PAR PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A grid for minimizing effects of ion divergence in plasma ion implant. The plasma grid is made of a flat plate having a plurality of holes, wherein the holes are arranged in a plurality of rows and a plurality of columns thereby forming beamlets of ions that diverge in one direction. A mask is used to form the implanted shapes on the wafer, wherein the holes in the mask are oriented orthogonally to the direction of beamlet divergence.
(FR)La présente invention concerne une grille permettant de minimiser les effets de la divergence ionique lors d'une implantation ionique par plasma. La grille pour plasma est constituée d'une plaque plate contenant une pluralité de trous, les trous étant agencés dans une pluralité de rangées et une pluralité de colonnes pour ainsi former de petits faisceaux d'ions qui divergent dans un sens. Un masque est utilisé pour former les formes implantées sur une tranche, les trous dans le masque étant orientés perpendiculairement au sens de divergence des petits faisceaux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)