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1. (WO2014100413) APPAREIL ET PROCÉDÉS DE DISTRIBUTION DE GAZ SYMÉTRIQUE À EFFICACITÉ DE PURGE ÉLEVÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/100413    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/076560
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 19.12.2013
CIB :
C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only).
KAO, Chien-Teh [US/US]; (US) (US only).
CHANG, Mei [US/US]; (US) (US only).
LAM, Hyman [US/US]; (US) (US only).
HUSTON, Joel M. [US/US]; (US) (US only).
YUAN, Xiaoxiong [US/US]; (US) (US only).
CUVALCI, Olkan [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : KAO, Chien-Teh; (US).
CHANG, Mei; (US).
LAM, Hyman; (US).
HUSTON, Joel M.; (US).
YUAN, Xiaoxiong; (US).
CUVALCI, Olkan; (US)
Mandataire : BLANKMAN, Jeffrey I.; Servilla Whitney LLC 33 Wood Avenue South Second Floor, Suite 210 Iselin, New Jersey 08830 (US)
Données relatives à la priorité :
61/745,093 21.12.2012 US
14/133,813 19.12.2013 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHODS FOR SYMMETRICAL GAS DISTRIBUTION WITH HIGH PURGE EFFICIENCY
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS DE DISTRIBUTION DE GAZ SYMÉTRIQUE À EFFICACITÉ DE PURGE ÉLEVÉE
Abrégé : front page image
(EN)Provided are apparatus and methods for depositing materials by vapor deposition and plasma enhanced vapor deposition techniques, and more particularly a gas distribution assembly and vapor deposition chamber to deposit a material. The gas distribution assembly comprises a plurality of sections with each section containing a flow channel with passages extending from the flow channel to the processing region of a processing chamber.
(FR)L'invention concerne un appareil et des procédés qui permettent de déposer des matières par des techniques de dépôt en phase vapeur et de dépôt en phase vapeur activé par plasma et, plus particulièrement, un ensemble de distribution de gaz et une chambre de dépôt en phase vapeur pour déposer une matière. L'ensemble de distribution de gaz comporte une pluralité de sections, chaque section contenant un canal d'écoulement ayant des passages s'étendant du canal d'écoulement à la région de traitement d'une chambre de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)