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1. (WO2014099398) BOBINE AJUSTABLE POUR PLASMA COUPLÉ PAR INDUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/099398    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/073368
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 05.12.2013
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714 (US)
Inventeurs : SASAGAWA, Teruo; (US)
Mandataire : ABUMERI, Mark M.; Knobbe Martens Olson & Bear LLP 2040 Main Street, Fourteenth Floor Irvine, California 92614 (US)
Données relatives à la priorité :
13/725,251 21.12.2012 US
Titre (EN) ADJUSTABLE COIL FOR INDUCTIVELY COUPLED PLASMA
(FR) BOBINE AJUSTABLE POUR PLASMA COUPLÉ PAR INDUCTION
Abrégé : front page image
(EN)Systems, methods and apparatus for fabricating devices use an inductively-coupled plasma. An inductively coupled plasma system includes a reaction chamber including a reaction space and a coil chamber. The system includes a workpiece support within the reaction space. The system includes a first inductive coil section and a second inductive coil section, the first and second inductive coil sections being independently movable. At least one power source is coupled to the first and second inductive coil sections. The first and second inductive coil sections and the at least one power source are configured to induce an inductively coupled plasma (ICP) in the reaction space. An adjustment mechanism is configured to move the first inductive coil section relative to the second inductive coil section.
(FR)Cette invention concerne des systèmes, des procédés et des appareils de fabrication de dispositifs par plasma couplé par induction. Un système à plasma couplé par induction comprend une chambre de réaction comprenant un espace de réaction et une chambre de bobine. Ledit système comprend de plus une platine de support de pièce de fabrication à l'intérieur de l'espace de réaction. Le système comprend en outre une première section de bobine d'induction et une seconde section de bobine d'induction, la première et la seconde section de bobine d'induction pouvant se déplacer l'une indépendamment de l'autre. Au moins une source d'alimentation est couplée à la première et à la seconde section de bobine d'induction. La première et la seconde section de bobine d'induction et ladite/lesdites source(s) d'alimentation sont conçues pour induire un plasma couplé par induction (ICP) dans l'espace de réaction. Un mécanisme d'ajustement est conçu pour déplacer la première section de bobine d'induction par rapport à la seconde section de bobine d'induction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)