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1. (WO2014098630) DISPOSITIF DE RECONNAISSANCE DE CONTAMINATIONS SUR LA BASE D'UNE CHAMBRE EN CÉRAMIQUE POUR UN SPECTROMÈTRE FAIMS OU DMS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/098630    N° de la demande internationale :    PCT/PL2013/000152
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
CIB :
G01N 27/62 (2006.01)
Déposants : WOJSKOWY INSTYTUT CHEMII I RADIOMETRII [PL/PL]; Al. Gen. Antoniego Chruściela "Montera" 105 PL-00-910 Warszawa (PL)
Inventeurs : MAZIEJUK, Mirosław; (PL).
GALLEWICZ, Wiesław; (PL).
CEREMUGA, Michał; (PL).
ŁAWRENCZYK, Jarosław; (PL).
ADAMCZYK-KOREYWO, Tomasz Marcin; (PL)
Mandataire : WIESŁAW BIENIAK; Kancelaria Patentowa BIPAT s.c. Srebrna 16, PL-00-810 Warszawa (PL)
Données relatives à la priorité :
P.402111 18.12.2012 PL
Titre (EN) DEVICE FOR RECOGNITION OF CONTAMINATIONS ON THE BASIS OF A CERAMIC CHAMBER FOR A FAIMS OR DMS SPECTROMETER
(FR) DISPOSITIF DE RECONNAISSANCE DE CONTAMINATIONS SUR LA BASE D'UNE CHAMBRE EN CÉRAMIQUE POUR UN SPECTROMÈTRE FAIMS OU DMS
Abrégé : front page image
(EN)A device according to the invention is characterised by maximum reduction of disturbances caused by the current flowing through the supply conduits and efficient sealing of the chamber at its gas inlet and outlet, favourably influencing such parameters as temperature, pressure or degree of ionisation, making the device easy to assemble and disassemble. The essence of the device consists in the fact that it has a chamber (5) and control units, voltage generator (11) for chamber control and an amplifier (12) for the ionic current in one plane, and the gas inlet (7) and the gas outlet (8) of the chamber are located in the flat bottom surface of the chamber, while in the locations of these holes, the chamber is supported on supports (2, 3) having a gas feeding hole (9) and a gas discharge hole (10) to /from the chamber in their flat top surfaces, the holes being in contact with the gas inlet and the gas outlet in the chamber, respectively.
(FR)Un dispositif selon l'invention est caractérisé par une réduction maximale des perturbations causées par le courant circulant par les conduites d'alimentation et une étanchéité efficace de la chambre au niveau de son orifice d'entrée et de sortie de gaz, ce qui influe favorablement sur des paramètres tels que la température, la pression ou le degré d'ionisation, facilitant l'assemblage et le démontage du dispositif. L'essence du dispositif réside dans le fait qu'il est doté d'une chambre (5) et d'unités de commande, d'un générateur de tension (11) pour la commande de la chambre et d'un amplificateur (12) pour le courant ionique dans un plan, et dans le fait que l'orifice d'entrée de gaz (7) et l'orifice de sortie de gaz (8) de la chambre sont situés dans la surface inférieure plane de la chambre, tandis qu'aux emplacements de ces orifices, la chambre est supportée sur des supports (2, 3) ayant un orifice d'alimentation en gaz (9) et un orifice d'évacuation de gaz (10) vers/depuis la chambre dans leurs surfaces supérieures planes, les orifices étant en contact avec l'orifice d'entrée de gaz et l'orifice de sortie de gaz dans la chambre, respectivement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)