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1. (WO2014098500) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SURFACE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE MÉTALLIQUE L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/098500    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/011891
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 19.12.2013
CIB :
C23C 8/24 (2006.01), C23C 8/02 (2006.01), C23C 8/80 (2006.01)
Déposants : KOREA INSTITUTE OF INDUSTRIAL TECHNOLOGY [KR/KR]; 89, Yangdaegiro-gil, Ipjang-myeon, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungcheongnam-do 331-825 (KR)
Inventeurs : KIM, Jun Ho; (KR).
JUNG, Uoo Chang; (KR).
CHA, Byung Chul; (KR).
KWON, Ah Ram; (KR).
JO, Hyung Ho; (KR)
Mandataire : KO, Young Kap; 4F, Public Support Center (Sampyeong-dong) 12, Daewangpangyo-ro, 645beon-gil, Bundang-gu Seongnam-si, Gyeonggi-do 463-400 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0149697 20.12.2012 KR
10-2013-0131321 31.10.2013 KR
10-2013-0131328 31.10.2013 KR
10-2013-0131333 31.10.2013 KR
10-2013-0131337 31.10.2013 KR
Titre (EN) METAL SURFACE TREATMENT DEVICE AND METAL SURFACE TREATMENT METHOD USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SURFACE MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE MÉTALLIQUE L'UTILISANT
(KO) 금속표면처리장치 및 이를 이용한 금속표면처리방법
Abrégé : front page image
(EN)A metal surface treatment device, according to the present invention, is a metal surface treatment device which carries out surface treatment for a target metal heated at a temperature for which surface treatment is possible, the device comprising: a reaction chamber which has a shape corresponding to an outer shape of the target metal and is arranged within a certain interval from the outer side of the target metal, and which accommodates at least a part of the target metal; and a raw gas supply unit for supplying raw gas which is necessary for an autocatalytic reaction with the target metal accommodated within the reaction chamber. Furthermore, a metal surface treatment method using the same comprises the steps of: positioning a target metal within the reaction chamber, which has the shape corresponding to the outer form of the target metal and is arranged within a certain interval from the outer side of the target metal and which accommodates at least a part of the target metal; and forming a raw gas layer in the target metal through an autocatalytic reaction by supplying raw gas to the inside of the reaction chamber through the raw gas supply unit.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement de surface métallique, qui effectue un traitement de surface sur un métal cible chauffé à une température à laquelle le traitement de surface est possible. Le dispositif comprend : une chambre de réaction qui a une forme qui correspond à une forme externe du métal cible, qui est agencée à une certaine distance du côté externe du métal cible et qui loge au moins une partie du métal cible ; et une unité d'alimentation en gaz brut destinée à l'alimentation en gaz brut qui est nécessaire pour une réaction autocatalytique avec le métal cible logé à l'intérieur de la chambre de réaction. Par ailleurs, un procédé de traitement de surface métallique utilisant ledit dispositif comprend les étapes consistant à : positionner un métal cible à l'intérieur de la chambre de réaction, qui présente une forme correspondant à la forme externe du métal cible, qui est agencée à une certaine distance du côté externe du métal cible et qui loge au moins une partie du métal cible ; et former une couche de gaz brut dans le métal cible grâce à une réaction autocatalytique en alimentant l'intérieur de la chambre de réaction en gaz brut via une unité d'alimentation en gaz brut.
(KO)본 발명에 따른 금속표면처리장치는, 표면 처리가 가능한 온도로 가열된 대상금속을 표면처리하는 금속표면처리장치에 있어서, 상기 대상금속의 외면 형상에 대응되는 형상으로 이루어져 상기 대상금속의 외면과 일정 간격 이내에 배치되며, 상기 대상금속의 적어도 일부를 수용하는 반응챔버 및 상기 반응챔버 내에 수용된 대상금속 측으로 자기촉매반응에 필요한 처리가스를 공급하는 처리가스공급부를 포함한다. 그리고 이를 이용한 금속표면처리방법은, 대상금속의 외면 형상에 대응되는 형상으로 이루어져 상기 대상금속의 외면과 일정 간격 이내에 배치되며, 상기 대상금속의 적어도 일부를 수용하는 반응챔버 내에 대상금속을 위치시키는 단계 및 처리가스공급부를 통해 상기 반응챔버 내에 처리가스를 공급하여 상기 대상금속에 자기촉매반응에 의한 처리가스층을 형성하는 단계를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)