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1. (WO2014098365) PROCÉDÉ DE RETRAIT D'UNE MEMBRANE LIQUIDE AU MOYEN D'UN FAISCEAU DE PARTICULES À HAUTE VITESSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/098365    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/009555
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 25.10.2013
CIB :
B08B 7/02 (2006.01), B08B 6/00 (2006.01)
Déposants : POSTECH ACADEMY-INDUSTRY FOUNDATION [KR/KR]; Pohang University of Science and Technology (POSTECH). San 31, Hyoja-dong Nam-gu Pohang-si Gyeongsangbuk-do 790-784 (KR)
Inventeurs : KIM, In Ho; (KR).
LEE, Jin Won; (KR)
Mandataire : YOON & YANG; 4th Floor, Samho Bldg., 997-9, Daechi-dong Gangnam-gu Seoul 135-502 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0148974 18.12.2012 KR
Titre (EN) METHOD FOR REMOVING LIQUID MEMBRANE USING HIGH-SPEED PARTICLE BEAM
(FR) PROCÉDÉ DE RETRAIT D'UNE MEMBRANE LIQUIDE AU MOYEN D'UN FAISCEAU DE PARTICULES À HAUTE VITESSE
(KO) 고속 입자 빔을 이용한 액막 제거 방법
Abrégé : front page image
(EN)A method for removing a liquid membrane using a high-speed particle beam, according to the present invention, comprises: a wet washing step of washing an object by using a washing solution; and a dry washing step of simultaneously removing the washing solution remaining on the object and pollutants or foreign substances in the washing solution by spraying sublimation particles.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de retirer une membrane liquide au moyen d'un faisceau de particules à haute vitesse, ledit procédé comprenant : une étape de lavage humide consistant à laver un objet au moyen d'une solution de lavage ; et une étape de lavage à sec consistant à retirer simultanément la solution de lavage restant sur l'objet et les polluants ou substances étrangères de la solution de lavage par pulvérisation de particules de sublimation.
(KO)본 발명에 따른 고속 입자 빔을 이용한 액막 제거 방법은, 세정액을 이용하여 대상물을 씻어내는 습식세정단계 및 승화성 입자를 분사하여 상기 대상물 잔류하는 상기 세정액 및 상기 세정액에 포함된 오염물질 또는 불순물을 동시에 제거하는 건식세정단계를 포함하여 이루어진다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)