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1. (WO2014098230) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, FILM CONDUCTEUR, ET FILM D’ISOLATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/098230    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/084292
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 20.12.2013
CIB :
C01B 31/02 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B32B 37/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01B 17/60 (2006.01)
Déposants : KURARAY CO., LTD. [JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801 (JP)
Inventeurs : MATSUGI Hiroshi; (JP).
MATSUSHIMA Motomi; (JP).
OTAKE Tomiaki; (JP)
Mandataire : UDAKA Katsuki; No2, Azuma Bldg. 5fl, 14, Kandasakumacho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010025 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-280273 21.12.2012 JP
Titre (EN) FILM FORMATION METHOD, CONDUCTIVE FILM, AND INSULATION FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, FILM CONDUCTEUR, ET FILM D’ISOLATION
(JA) 膜形成方法、導電膜、及び絶縁膜
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a film having a pattern with a high resolution. The present invention is provided with: a step in which a conductive carbon layer is provided to one surface side of a base material; a step in which a conductive carbon layer is provided to another surface side of the base material; a step in which an overcoat layer is provided upon the conductive carbon layer provided to the one surface side; a step in which an overcoat layer is provided upon the conductive carbon layer provided to the other surface side; a step in which a mask having a prescribed pattern is provided upon the overcoat layer provided to the one surface side; a step in which a mask having a prescribed pattern is provided upon the overcoat layer provided to the other surface side; and a step in which, under an atmosphere provided with oxygen, the conductive carbon layers are irradiated with ultraviolet radiation in accordance with openings in the masks.
(FR)L’objectif de la présente invention est de produire un film avec un motif ayant une résolution élevée. La présente invention comprend : une étape dans laquelle une couche de carbone conducteur est disposée sur un côté de surface d’un matériau de base ; une étape dans laquelle une couche de carbone conducteur est disposée sur l’autre côté de la surface du matériau de base ; une étape dans laquelle une couche de revêtement est disposée sur la couche de carbone conducteur disposée sur le premier côté de la surface ; une étape dans laquelle une couche de revêtement est disposée sur la couche de carbone conducteur disposée sur l’autre côté de la surface ; une étape dans laquelle un masque ayant un motif spécifié est disposé sur la couche de revêtement disposée sur le premier côté de la surface ; une étape dans laquelle un masque ayant un motif spécifié est disposé sur la couche de revêtement disposée sur l’autre côté de la surface ; et une étape dans laquelle, sous une atmosphère alimentée en oxygène, les couches de carbone conducteur sont irradiées avec un rayonnement ultraviolet conformément à des ouvertures dans les masques.
(JA)解像度が高いパターンの膜を提供することである。導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程とを具備する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)