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1. WO2014098230 - PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, FILM CONDUCTEUR, ET FILM D’ISOLATION

Numéro de publication WO/2014/098230
Date de publication 26.06.2014
N° de la demande internationale PCT/JP2013/084292
Date du dépôt international 20.12.2013
CIB
C01B 31/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
31Carbone; Ses composés
02Préparation du carbone; Purification
B32B 7/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches; Produits stratifiés caractérisés par l’orientation relative des éléments caractéristiques entre les couches, ou par les valeurs relatives d’un paramètre mesurable entre les couches, c. à d. produits comprenant des couches ayant des propriétés physiques, chimiques ou physicochimiques différentes; Produits stratifiés caractérisés par la jonction entre les couches
02Propriétés physiques, chimiques ou physicochimiques
B32B 9/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
9Produits stratifiés composés essentiellement d'une substance particulière non couverte par les groupes B32B11/-B32B29/155
B32B 37/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32PRODUITS STRATIFIÉS
BPRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
37Procédés ou dispositifs pour la stratification, p.ex. par polymérisation ou par liaison à l'aide d'ultrasons
H01B 5/14 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
BCÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
5Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme
14comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants
H01B 13/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
BCÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
13Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
CPC
B32B 2307/202
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2307Properties of the layers or laminate
20having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
202Conductive
B32B 2457/20
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2457Electrical equipment
20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
B32B 7/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
7Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
02Physical, chemical or physicochemical properties
B32B 9/007
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
9Layered products comprising a ; layer of a; particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
005comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
007comprising carbon, e.g. graphite, composite carbon
H01L 31/022466
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
02Details
0224Electrodes
022466made of transparent conductive layers, e.g. TCO, ITO layers
Déposants
  • 株式会社クラレ KURARAY CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 松木 浩志 MATSUGI Hiroshi
  • 松島 基実 MATSUSHIMA Motomi
  • 大竹 富明 OTAKE Tomiaki
Mandataires
  • 宇高 克己 UDAKA Katsuki
Données relatives à la priorité
2012-28027321.12.2012JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) FILM FORMATION METHOD, CONDUCTIVE FILM, AND INSULATION FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, FILM CONDUCTEUR, ET FILM D’ISOLATION
(JA) 膜形成方法、導電膜、及び絶縁膜
Abrégé
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a film having a pattern with a high resolution. The present invention is provided with: a step in which a conductive carbon layer is provided to one surface side of a base material; a step in which a conductive carbon layer is provided to another surface side of the base material; a step in which an overcoat layer is provided upon the conductive carbon layer provided to the one surface side; a step in which an overcoat layer is provided upon the conductive carbon layer provided to the other surface side; a step in which a mask having a prescribed pattern is provided upon the overcoat layer provided to the one surface side; a step in which a mask having a prescribed pattern is provided upon the overcoat layer provided to the other surface side; and a step in which, under an atmosphere provided with oxygen, the conductive carbon layers are irradiated with ultraviolet radiation in accordance with openings in the masks.
(FR)
L’objectif de la présente invention est de produire un film avec un motif ayant une résolution élevée. La présente invention comprend : une étape dans laquelle une couche de carbone conducteur est disposée sur un côté de surface d’un matériau de base ; une étape dans laquelle une couche de carbone conducteur est disposée sur l’autre côté de la surface du matériau de base ; une étape dans laquelle une couche de revêtement est disposée sur la couche de carbone conducteur disposée sur le premier côté de la surface ; une étape dans laquelle une couche de revêtement est disposée sur la couche de carbone conducteur disposée sur l’autre côté de la surface ; une étape dans laquelle un masque ayant un motif spécifié est disposé sur la couche de revêtement disposée sur le premier côté de la surface ; une étape dans laquelle un masque ayant un motif spécifié est disposé sur la couche de revêtement disposée sur l’autre côté de la surface ; et une étape dans laquelle, sous une atmosphère alimentée en oxygène, les couches de carbone conducteur sont irradiées avec un rayonnement ultraviolet conformément à des ouvertures dans les masques.
(JA)
解像度が高いパターンの膜を提供することである。導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程とを具備する。
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