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1. (WO2014098159) PROCÉDÉ POUR L'ÉLIMINATION DE MATIÈRE ÉTRANGÈRE DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/098159    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/083984
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 18.12.2013
CIB :
C03C 15/00 (2006.01), C03C 19/00 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : HORIE, Mitsuru; (JP).
KIMURA, Hiroshi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-276843 19.12.2012 JP
2013-139813 03.07.2013 JP
Titre (EN) METHOD FOR REMOVING FOREIGN MATTER FROM SURFACE OF GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ POUR L'ÉLIMINATION DE MATIÈRE ÉTRANGÈRE DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT EN VERRE
(JA) ガラス基板表面の異物除去方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is a method suitable for the removal of dross, and in particular mold-remnant dross, present in the surface of a glass substrate manufactured using a float process. The method for removing foreign matter from the surface of a glass substrate is characterized in that: at least one metal selected from the group consisting of zinc, iron, and aluminum, and an inorganic acid aqueous solution having a pH of 3 or less and containing at least one type of ion selected from the group consisting of chlorine ions, iodine ions, bromine ions, fluorine ions and sulfuric acid ions are each supplied, so that the amount of the inorganic acid and the metal supplied per unit area is at least 1g/m2, to the glass substrate surface that makes contact with the molten metal bath when manufacturing a glass substrate using a float process; and after the surface has been etched, the etched surface is subjected to mechanical or chemical polishing so that the polishing amount is 0.1-2μm.
(FR)L'invention porte sur un procédé approprié pour l'élimination de crasse, et en particulier de crasse restant après moulage, présente sur la surface d'un substrat en verre fabriqué à l'aide d'un procédé par flottage. Le procédé pour l'élimination de matière étrangère de la surface d'un substrat en verre est caractérisé en ce que : au moins un métal choisi dans le groupe constitué par le zinc, le fer et l'aluminium et une solution aqueuse d'acide inorganique ayant un pH inférieur ou égal à 3 et contenant au moins un type d'ion choisi dans le groupe constitué par les ions du chlore, les ions de l'iode, les ions du brome, les ions du fluor et les ions de l'acide sulfurique sont chacun apportés, afin que la quantité de l'acide inorganique et du métal apportés par unité de surface soit d'au moins 1 g/m2, à la surface du substrat en verre qui est en contact avec le bain de métal en fusion lors de la fabrication d'un substrat en verre à l'aide d'un procédé par flottation ; et après que la surface a été décapée, la surface décapée est soumise à un polissage mécanique ou chimique afin que l'ampleur du polissage soit de 0,1-2 µm.
(JA) フロート法で製造されたガラス基板表面に存在するドロス、特に、型残りドロスの除去に好適な方法の提供。 塩素イオン、ヨウ素イオン、臭素イオン、フッ素イオン、及び、硫酸イオンからなる群から選択される少なくとも1つのイオンを含むpH3以下の無機酸水溶液と、亜鉛、鉄及びアルミニウムからなる群から選択される少なくとも1種の金属とを、それぞれ、前記無機酸及び前記金属の単位面積当たりの供給量が1g/m2以上となるように、フロート法で製造されたガラス基板の溶融金属浴との接触面に供給して、該面をエッチング処理した後、該エッチング処理された面を、研磨量が0.1μm以上2μm以下になるように、機械研磨又は化学機械研磨することを特徴とする、ガラス基板表面の異物除去方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)