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1. (WO2014097993) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE COUCHE DE FOND D'UN FILM À AUTO-ORGANISATION CONTENANT UN COMPOSÉ VINYLIQUE ORGANIQUE POLYCYCLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097993    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/083492
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 13.12.2013
CIB :
C09D 201/00 (2006.01), B05D 1/38 (2006.01), B05D 3/10 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 125/00 (2006.01), C09D 139/04 (2006.01), C09D 145/00 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : SOMEYA, Yasunobu; (JP).
WAKAYAMA, Hiroyuki; (JP).
ENDO, Takafumi; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-276135 18.12.2012 JP
Titre (EN) BOTTOM LAYER FILM-FORMATION COMPOSITION OF SELF-ORGANIZING FILM CONTAINING POLYCYCLIC ORGANIC VINYL COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE COUCHE DE FOND D'UN FILM À AUTO-ORGANISATION CONTENANT UN COMPOSÉ VINYLIQUE ORGANIQUE POLYCYCLIQUE
(JA) 多環芳香族ビニル化合物を含む自己組織化膜の下層膜形成組成物
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a bottom layer film of a self-organizing film that forms a vertical pattern in the self-organizing film without causing intermixing (layer mixing) with a top-layer self-organizing film. [Solution] This bottom layer film-formation composition of a self-organizing film is characterized by containing a polymer having at least 0.2 mol% of a unit structure of a polycyclic aromatic vinyl compound with respect to all the unit structures of the polymer. The polymer has at least 20 mol% of a unit structure of an aromatic vinyl compound with respect to all the unit structures of the polymer, and has at least 1 mol% of a unit structure of a polycyclic aromatic vinyl compound with respect to all of the unit structures of aromatic vinyl compound. The aromatic vinyl compound contains vinylnaphthylene, acenaphthylene, or vinylcarbazole, which each may be substituted, and the polycyclic aromatic vinyl compound is vinylnaphthlylene, acenaphthylene, or vinylcarbazole. Also, the aromatic vinyl compound contains vinylnaphthylene, acenaphthylene, or vinylcarbazole, which each may be substituted, and an optionally substituted styrene, and the polycyclic aromatic vinyl compound is vinylnaphthlylene, acenaphthylene, or vinylcarbazole.
(FR)[Problème] Obtenir un film de couche de fond d'un film à auto-organisation qui forme un motif vertical dans le film à auto-organisation sans provoquer de mélange (mélange des couches) avec un film à auto-organisation de couche superficielle. [Solution] Cette composition de formation de film de couche de fond d'un film à auto-organisation est caractérisée en ce qu'elle contient un polymère ayant au moins 0,2% en moles d'une structure unitaire d'un composé vinylique aromatique polycyclique par rapport à la totalité des structures unitaires du polymère. Le polymère possède au moins 20% en moles d'une structure unitaire d'un composé vinylique aromatique par rapport à toutes les structures unitaires du polymère, et au moins 1% en moles d'une structure unitaire d'un composé vinylique aromatique polycyclique par rapport à la totalité des structures unité de composé vinyle aromatique. Le composé vinylique aromatique contient du vinylnaphthylène, de l'acénaphthylène, ou du vinylcarbazole, chacun pouvant être substitué, et le composé vinylique aromatique polycyclique est du vinylnaphthlyléne, de l'acénaphthylène, or du vinylcarbazole. En outre, le composé vinylique aromatique contient du vinylnaphthlylène, de l'acénaphthylène, or du vinylcarbazole, chacun pouvant être substitué, et un styrène éventuellement substitué, et le comosé vinylique aromatique polycyclique est du vinylnaphthlylène, de l'acénaphthylène, or du vinylcarbazole.
(JA)【課題】上層の自己組織化膜とインターミキシング(層混合)を引き起こさず、自己組織化膜に垂直パターンを形成する自己組織化膜の下層膜を提供する。 【解決手段】ポリマーの全単位構造あたり多環芳香族ビニル化合物の単位構造を0.2モル%以上有するポリマーを含むことを特徴とする自己組織化膜の下層膜形成組成物。前記ポリマーは、芳香族ビニル化合物の単位構造をポリマーの全単位構造あたり20モル%以上有し、且つ芳香族ビニル化合物の全単位構造あたり多環芳香族ビニル化合物の単位構造が1モル%以上有するポリマーである。前記芳香族ビニル化合物は、各々置換されていてもよいビニルナフタレン、アセナフチレン又はビニルカルバゾールを含み、前記多環芳香族ビニル化合物はビニルナフタレン、アセナフチレン又はビニルカルバゾールである。また前記芳香族ビニル化合物は置換されていてもよいスチレンと各々置換されていてもよいビニルナフタレン、アセナフチレン又はビニルカルバゾールを含み、多環芳香族ビニル化合物がビニルナフタレン、アセナフチレン又はビニルカルバゾールである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)