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1. (WO2014097887) COMPOSITION FAVORISANT LA MOUILLABILITÉ D'UN SUBSTRAT, COMPOSITION DE POLISSAGE CONTENANT CELLE-CI ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS À L'AIDE DE CELLE-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097887    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082600
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 04.12.2013
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502 (JP)
Inventeurs : NAGAHARA, Kayoko; (JP).
HIRANO, Kazuyuki; (JP).
HORI, Katsunobu; (JP)
Mandataire : HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-274893 17.12.2012 JP
2012-283170 26.12.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE WETTABILITY-PROMOTING COMPOSITION, POLISHING COMPOSITION CONTAINING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATES USING SAME
(FR) COMPOSITION FAVORISANT LA MOUILLABILITÉ D'UN SUBSTRAT, COMPOSITION DE POLISSAGE CONTENANT CELLE-CI ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS À L'AIDE DE CELLE-CI
(JA) 基板濡れ性促進組成物、並びにこれを含む研磨用組成物およびこれを用いた基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a high-quality substrate wettability-promoting composition that is free of or almost free of impurities. The present invention contains a hydrophilic component composed mainly of a cellulose derivative, and a solvent component. Impurities derived from producing the cellulose derivative are equal to or less than 0.1 mass%.
(FR)La présente invention concerne une composition favorisant la mouillabilité d'un substrat de grande qualité qui ne contient pas ou quasiment pas d'impuretés. L'invention contient en outre un composant hydrophile constitué principalement d'un dérivé de cellulose et d'un composant de solvant. Les impuretés découlant de la production du dérivé de cellulose sont inférieures ou égales à 0,1 % en masse.
(JA)不純物がない、またはほとんどない高品質な基板濡れ性促進組成物を提供する。本発明は、セルロース誘導体を主成分とする親水性成分と、溶媒成分と、を含み、前記セルロース誘導体の製造由来の不純物が0.1質量%以下である、基板濡れ性促進組成物である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)