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1. (WO2014097808) COMPOSITION DE RÉSINE POLYACÉTAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097808    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081306
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 20.11.2013
CIB :
C08L 59/00 (2006.01), C08K 5/13 (2006.01), C08K 5/29 (2006.01), C08K 5/3435 (2006.01), C08L 35/00 (2006.01)
Déposants : POLYPLASTICS CO., LTD. [JP/JP]; 2-18-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1088280 (JP)
Inventeurs : HASE, Hiroyuki; (JP).
RYU, Kazuhiro; (JP).
YAMAMOTO, Yuhko; (JP)
Mandataire : SHOBAYASHI, Masayuki; Sapia Tower, 1-7-12, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-279924 21.12.2012 JP
Titre (EN) POLYACETAL RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POLYACÉTAL
(JA) ポリアセタール樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a polyacetal resin composition that has excellent weather (light) resistance and provides a molded article which can be suppressed to a low level in the generation of formaldehyde, while being also suppressed in bleeding of a blended component or the like. A polyacetal resin composition of the present invention contains: (A) 100 parts by weight of a polyacetal copolymer; (B) 0.03-0.30 part by weight of a hindered phenol antioxidant; (C) 0.05-0.8 part by weight of a guanamine compound and/or a hydrazide compound; (D) 0.1-1.0 part by weight of a hindered amine stabilizer that is a copolymerized product of an olefin, a maleic acid and an amino group-containing piperidine derivative and has a weight average molecular weight of 2,000 or more; (E) 0.1-1.0 part by weight of a hindered amine stabilizer that has a weight average molecular weight of less than 700, and wherein the nitrogen in a piperidine derivative is tertiary; and (F) 0.2-1 part by weight of an ultraviolet absorbent.
(FR)Cette invention concerne une composition de résine polyacétal ayant une excellente résistance aux intempéries (tenue à la lumière) et qui donne un article moulé caractérisé par un bas niveau de génération de formaldéhyde, et également par l'absence de ressuage d'un composant incorporé par mélange ou autre. La composition de résine polyacétal selon la présente invention contient : (A) 100 parties en poids d'un copolymère de polyacétal ; (B) 0,03-0,30 partie en poids d'un antioxydant de type phénol encombré ; (C) 0,05-0,8 partie en poids d'un composé de guanamine et/ou d'un composé d'hydrazide ; (D) 0,1-1,0 partie en poids d'un stabilisant de type amine encombrée qui est un produit copolymérisé d'une oléfine, d'un acide maléique et d'un dérivé de pipéridine contenant un groupe amino et a un poids moléculaire moyen en poids de 2000 ou plus, l'azote dans le dérivé de pipéridine étant tertiaire ; (E) 0,1-1,0 partie en poids d'un stabilisant de type amine encombrée ayant un poids moléculaire moyen en poids inférieur à 700 ; et (F) 0,2-1 partie en poids d'un absorbant d'ultraviolets.
(JA) 耐候(光)性に優れ、成形品からのホルムアルデヒドの発生を低レベルに抑制でき、かつ、配合成分等の染み出しも抑制されたポリアセタール樹脂組成物を提供する。 本発明のポリアセタール樹脂組成物は、(A)ポリアセタール共重合体100重量部と、(B)ヒンダードフェノール系酸化防止剤0.03~0.30重量部と、(C)グアナミン化合物及び/又はヒドラジド化合物0.05~0.8重量部と、(D)重量平均分子量が2000以上であり、オレフィンとマレイン酸とアミノ基含有ピペリジン誘導体との共重合物であるヒンダードアミン系安定剤0.1~1.0重量部と、(E)重量平均分子量が700未満であり、ピペリジン誘導体の窒素が3級であるヒンダードアミン安定剤0.1~1.0重量部と、(F)紫外線吸収剤0.2~1重量部と、を含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)