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1. (WO2014097577) ÉLÉMENT DE CONSTITUTION D'ESPACE DE DÉCHARGE ET SON PROCÉDÉ DE RÉGÉNÉRATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097577    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/007268
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 10.12.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    17.10.2014    
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP)
Inventeurs : YASUMATSU, Yasushi; (JP).
OKAMOTO, Naoyuki; (JP).
MOTOCHI, Kaori; (JP)
Mandataire : OKABE, Yuzuru; 22F, Marunouchi Kitaguchi Bldg., 1-6-5 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-277110 19.12.2012 JP
Titre (EN) MEMBER FOR CONSTITUTING DISCHARGE SPACE, AND METHOD FOR REGENERATING SAME
(FR) ÉLÉMENT DE CONSTITUTION D'ESPACE DE DÉCHARGE ET SON PROCÉDÉ DE RÉGÉNÉRATION
(JA) 放電空間を画成する部材およびその再生処理方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a member for constituting a discharge space and a method for regenerating the member, the member being capable of inhibiting the base from suffering damage during the regeneration. A bell jar (104) according to an embodiment of the invention comprises a base (201), a first interlayer (202) formed on the discharge-space-side surface of the base, a second interlayer (203) formed on the surface of the first interlayer, and a topcoat layer (204) formed on the surface of the second interlayer. The bell jar has been configured so that the second interlayer dissolves in hydrofluoric acid and the first interlayer does not dissolve in hydrofluoric acid. In the regeneration of the bell jar, hydrofluoric acid is used to remove the second interlayer and the topcoat layer together with deposits adherent to the surface thereof, and the first interlayer is left unremoved. As a result, the hydrofluoric acid can be inhibited from coming into contact with and damaging the base.
(FR)La présente invention a pour objet la réalisation d'un élément de constitution d'un espace de décharge et un procédé de régénération de l'élément, l'élément pouvant empêcher que la base ne souffre d'un endommagement pendant la régénération. Selon un mode de réalisation de l'invention, une cloche (104) comprend une base (201), une première couche intermédiaire (202) formée sur la surface côté espace de décharge de la base, une seconde couche intermédiaire (203) formée sur la surface de la première couche intermédiaire, et une couche superficielle (204) formée sur la surface de la seconde couche intermédiaire. La cloche est conçue de sorte que la seconde couche intermédiaire se dissout dans de l'acide fluorhydrique et la première couche intermédiaire ne se dissout pas dans de l'acide fluorhydrique. Lors de la régénération de la cloche, l'acide fluorhydrique est utilisé pour supprimer conjointement les dépôts qui adhèrent aux surfaces de la seconde couche intermédiaire et de la couche superficielle, et la première couche intermédiaire est laissée telle quelle. Par conséquent, l'acide fluorhydrique ne peut pas venir en contact avec la base ni endommager cette dernière.
(JA) 本発明は、再生処理時に発生する基材へのダメージを低減することができる放電空間を画成する部材および該部材の再生処理方法を提供することを目的とする。本発明の一実施形態に係るベルジャ104は、基材201と、基材の放電空間側の表面に被覆されている第1の中間層202と、第1の中間層の表面に被覆されている第2の中間層203と、第2の中間層の表面に被覆されているトップコート層204とを含む。第2の中間層はフッ酸に溶解し、かつ第1の中間層はフッ酸に溶解しないように構成されている。ベルジャの再生処理においては、フッ酸を用いて表面の付着物質ごと第2の中間層およびトップコート層を除去し、第1の中間層を残存させる。その結果、基材にフッ酸が接触してダメージを与えることを抑制することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)