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1. (WO2014097545) ROULEAU DE TRANSPORT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097545    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/006903
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 25.11.2013
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP/JP]; 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP)
Inventeurs : OHBA, Naoki; .
TAMAGAKI, Hiroshi;
Mandataire : KOTANI, Etsuji; Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-279533 21.12.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TRANSPORT ROLLER
(FR) ROULEAU DE TRANSPORT DE SUBSTRAT
(JA) 基材搬送ローラ
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a substrate transport roller (2a) capable of ensuring a broad temperature-control region on a substrate, without reducing substrate transport quality. This substrate transport roller (2a) is provided in a film-forming device (1) for executing a film-forming process on the surface of a film substrate (W), transports the film substrate (W) by rotating around a center axis, and is equipped with: a center-section segment (13a) positioned in the center section in the axial direction extending along the center axis, and having a first outer-circumferential surface; end-section segments (12a, 12b) positioned on both sides on the outside in the axial direction of the center-section segment (13a), and each having a second outer-circumferential surface which contacts the substrate (W) and has a larger diameter than that of the first outer-circumferential surface; a center-section-rising-falling-temperature-medium mechanism for changing the temperature of the center-section segment (13a); and a both-end-section-rising-falling-temperature mechanism for changing the temperature of each of the end-section segments (12a, 12b) independently from the center-section segment (13a).
(FR)L'invention concerne un rouleau de transport de substrat (2a) qui permet d'obtenir une grande zone à température régulée sur un substrat, sans réduire la qualité de transport de substrat. Ce rouleau de transport de substrat (2a) est présent dans un dispositif de formation de film (1) qui permet de mettre en oeuvre un procédé de formation de film sur la surface d'un substrat de film (W), transporte le substrat de film (W) par rotation autour d'un axe central, et comprend : un segment de section centrale (13a) positionné dans la section centrale dans le sens axial s'étendant le long de l'axe central, et comportant une première surface circonférentielle extérieure ; des segments de section d'extrémité (12a, 12b) positionnés sur les deux côtés sur l'extérieur dans le sens axial du segment de section centrale (13a), et présentant chacun une deuxième surface circonférentielle extérieure qui est en contact avec le substrat (W) et possédant un diamètre supérieur à celui de la première surface circonférentielle extérieure ; un mécanisme d'augmentation-réduction de la température de la section centrale qui permet de modifier la température du segment de section centrale (13a) ; et un mécanisme d'augmentation-réduction de la température des deux sections d'extrémité qui permet de modifier la température de chaque segment de section d'extrémité (12a, 12b) indépendamment du segment de section centrale (13a).
(JA) 基材の搬送品質を低下させることなく、基材に対して幅広い温度制御域を確保することができる基材搬送ローラ(2a)が提供される。基材搬送ローラ(2a)は、フィルム基材(W)の表面に成膜処理を施す成膜装置(1)に設けられ、中心軸回りに回転することによりフィルム基材(W)を搬送するものであり、前記中心軸に沿った軸方向における中央部に位置して第1の外周面を有する中央部セグメント(13a)と、中央部セグメント(13a)の軸方向の両外側に位置し、基材(W)と接触する第2の外周面を有し、第2の外周面は第1の外周面よりも大きな径を有する端部セグメント(12a,12b)と、中央部セグメント(13a)の温度を変化させる中央部昇降温媒体機構と、前記各端部セグメント(12a,12b)の温度を前記中央部セグメント(13a)とは独立して変化させる両端部昇降温機構と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)