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1. (WO2014097402) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE MESURE DU POTENTIEL ZÊTA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097402    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/082825
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 18.12.2012
CIB :
G01N 5/00 (2006.01), G01N 7/00 (2006.01), G01N 15/04 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : YOSHIDA Hideto; (JP).
TAKAI Kenji; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ZETA POTENTIAL MEASUREMENT METHOD AND ZETA POTENTIAL MEASUREMENT SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE MESURE DU POTENTIEL ZÊTA
(JA) ゼータ電位測定方法及びゼータ電位測定システム
Abrégé : front page image
(EN)A zeta potential measurement method according to an embodiment includes a step of applying an electric field to a suspension that contains particles and at the same time measuring the change over time in a parameter pertaining to pressure at a location in the suspension, and a step of using the change over time in the parameter and a particle size distribution to calculate the zeta potential for each particle size.
(FR)L'invention concerne, selon un mode de réalisation, un procédé de mesure du potentiel zêta comprenant une étape consistant à appliquer un champ électrique à une suspension qui contient des particules et à mesurer en même temps la variation dans le temps d'un paramètre relatif à la pression à un endroit de la suspension, et une étape consistant à utiliser la variation dans le temps du paramètre et une distribution des tailles de particules pour calculer le potentiel zêta pour chaque taille de particules.
(JA) 実施形態に係るゼータ電位測定方法は、粒子を含む懸濁液に電界を印加しながら、懸濁液中の位置における圧力に関連するパラメータの経時変化を測定するステップと、パラメータの経時変化と粒子の粒度分布とを用いて、粒子の粒径ごとのゼータ電位を算出するステップとを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)