WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014097128) MAGNÉTOMÈTRE À PLAGE DYNAMIQUE ÉTENDUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/097128    N° de la demande internationale :    PCT/IB2013/061007
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 17.12.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.10.2014    
CIB :
G01R 33/02 (2006.01), G01R 33/09 (2006.01), G01R 33/07 (2006.01)
Déposants : INSTITUTE OF GEOLOGICAL AND NUCLEAR SCIENCES LIMITED [NZ/NZ]; 1 Fairway Drive Avalon Lower Hutt (NZ)
Inventeurs : KENNEDY, John, Vedamuthu; (NZ).
LEVENEUR, Jerome; (NZ).
WILLIAMS, Grant, Victor, Mclelland; (NZ)
Mandataire : ADAMS, Matthew, D; A J Park Level 22, State Insurance Tower 1 Willis Street P O Box 949 Wellington, 6015 (NZ)
Données relatives à la priorité :
604687 17.12.2012 NZ
Titre (EN) WIDE DYNAMIC RANGE MAGNETOMETER
(FR) MAGNÉTOMÈTRE À PLAGE DYNAMIQUE ÉTENDUE
Abrégé : front page image
(EN)A magnetometer 100, for determining an external magnetic field, comprises a magnetoresistive material forming, an electrode arrangement 104, and a processor. A resistive response of the magnetoresistive material comprises a decreasing response for a first range of increasing applied external magnetic fields, and an increasing response for a second range of increasing applied external magnetic fields. The electrode arrangement 104 measures the resistive response of the magnetoresistive material to the applied external magnetic field. The processor is configured to determine if the external magnetic field applied to the magnetoresistive material is in the first range or in the second range. The processor is configured to determine the external magnetic field based at least partly on the resistive response of the magnetoresistive material to the external magnetic field and whether the external magnetic field is in the first range or in the second range.
(FR)L'invention concerne un magnétomètre (100), servant à déterminer un champ magnétique externe, qui comprend un matériau magnétorésistif formant un ensemble d'électrodes (104) et un processeur. Une réponse résistive du matériau magnétorésistif comprend une réponse descendante pour une première plage de champs magnétiques externes appliqués ascendants, et une réponse ascendante pour une deuxième plage de champs magnétiques externes appliqués ascendants. L'ensemble d'électrodes (104) mesure la réponse résistive du matériau magnétorésistif au champ magnétique externe appliqué. Le processeur est conçu pour déterminer si le champ magnétique externe appliqué sur le matériau magnétorésistif se trouve dans la première ou dans la deuxième plage. Le processeur est conçu pour déterminer le champ magnétique externe sur la base au moins en partie de la réponse résistive du matériau magnétorésistif au champ magnétique externe et si le champ magnétique externe se trouve dans la première ou dans la deuxième plage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)