WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014096306) PROCÉDÉ D'HYDROSILYLATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/096306    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/077581
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 20.12.2013
CIB :
C07F 7/08 (2006.01), B01J 29/03 (2006.01), B01J 29/04 (2006.01)
Déposants : BLUESTAR SILICONES FRANCE SAS [FR/FR]; 21 Avenue Georges Pompidou F-69003 Lyon (FR).
UNIVERSITE CLAUDE BERNARD LYON 1 [FR/FR]; (FR)
Inventeurs : THIEULEUX, Chloé; (FR).
SAYAH EL RAYES, Reine; (FR).
ZANOTA, Marie-Line; (FR).
MEILLE, Valérie; (FR).
VIVIER, Richard; (FR).
MARROT, Sébastien; (FR)
Mandataire : GROSBOIS, Mathilde; Lavoix 62, rue de Bonnel F-69003 Lyon (FR)
Données relatives à la priorité :
1262643 21.12.2012 FR
Titre (EN) HYDROSILYLATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'HYDROSILYLATION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method (P) for hydrosilylating at least one compound (C), including at least one unsaturation in the presence of an organosilicon compound (O) including at least one hydrogen atom per molecule bonded directly to a silicon atom, and of a catalytic hydrosilylation system including a structured porous material (A) comprising pores and an inorganic structure consisting of silicon oxide walls, in which metal nanoparticles are contained.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'hydrosilylation (P) d'au moins un composé (C) comprenant au moins une insaturation en présence d'un composé organosilicié (O) comprenant au moins un atome d'hydrogène par molécule lié directement à un atome de silicium et d'un système catalytique d'hydrosilylation comprenant un matériau poreux structuré (A) comportant des pores et une charpente inorganique composée de murs d'oxyde de silicium dans lesquels sont contenues des nanoparticules métalliques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)