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1. (WO2014095414) PROCÉDÉ POUR LE PHOTOALIGNEMENT PLANAR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/095414    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/075753
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 06.12.2013
CIB :
G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/00 (2006.01)
Déposants : ROLIC AG [CH/CH]; Chamerstrasse 50 CH-6300 Zug (CH)
Inventeurs : ECKERT, Jean-François; (FR).
PALIKA, Satish; (CH).
TANG, Qian; (CH)
Mandataire : VEENSTRA, Eva; Rolic Technologies Ltd. IP Department Gewerbestrasse 18 CH-4123 Allschwil (CH)
Données relatives à la priorité :
12198799.4 21.12.2012 EP
Titre (EN) METHOD FOR THE PLANAR PHOTOALIGNMENT
(FR) PROCÉDÉ POUR LE PHOTOALIGNEMENT PLANAR
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method for the planar photoalignment of liquid crystals by using at least an aligning polymer and at least a polymerizable monomer. In addition, the present invention relates to a polymerizable monomer, to a composition comprising said aligning polymer and said polymerizable monomer and its use for alignment layers in optical, electro optical or optoelectronic devices, especially liquid crystal devices (LCDs), more especially in LCDs having IPS mode.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour le photoalignement planar de cristaux liquides qui utilise au moins un polymère d'alignement et au minimum un monomère polymérisable. De plus, la présente invention se rapporte à un monomère polymérisable, à une composition contenant ledit polymère d'alignement et ledit monomère polymérisable, ainsi qu'à l'utilisation de cette composition pour des couches d'alignement dans des dispositifs optiques, électro-optiques ou optoélectroniques, en particulier dans des dispositifs à cristaux liquides (LCD), et plus particulièrement dans des LCD à mode IPS.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)