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1. (WO2014095261) TRANSPORT DE FAISCEAU POUR LITHOGRAPHIE UVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/095261    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/074710
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 26.11.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : VAN SCHOOT, Jan; (NL).
EURLINGS, Markus; (NL).
KREUWEL, Hermanus; (NL)
Mandataire : SIEM, Max Yoe Shé; Asml Netherlands B.v. P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/740,439 20.12.2012 US
Titre (EN) BEAM DELIVERY FOR EUV LITHOGRAPHY
(FR) TRANSPORT DE FAISCEAU POUR LITHOGRAPHIE UVE
Abrégé : front page image
(EN)A beam delivery apparatus is used with a laser produced plasma source. The beam delivery apparatus comprises variable zoom optics (550) operable to condition a beam of radiation so as to output a conditioned beam having a configurable beam diameter (b) and a plurality of mirrors (530a, 530b) operable to direct the conditioned beam of radiation to a plasma generation site. The beam delivery apparatus enables control of the axial position of the beam where the beam has a particular diameter, with respect to the beam's focus position (570). Also, a method is used to control the axial position of the location at a plasma generation site where a beam has a particular diameter, with respect to the beam's focus position.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de transport de faisceau qui s'utilise avec une source de plasma produit par laser. Le dispositif de transport de faisceau comprend une optique à zoom variable (550) servant à conditionner un faisceau de rayonnement de manière à émettre un faisceau conditionné ayant un diamètre de faisceau configurable (b) et une pluralité de miroirs (530a, 530b) servant à orienter le faisceau de rayonnement conditionné vers un site de production de plasma. Le dispositif de transport de faisceau permet de commander la position axiale du faisceau à l'endroit où le faisceau a un diamètre particulier, par rapport à la position de focalisation (570) du faisceau. On utilise également un procédé permettant de commander la position axiale de l'emplacement au niveau d'un site de production de plasma où un faisceau a un diamètre particulier, par rapport à la position de focalisation du faisceau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)