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1. (WO2014094202) APPAREIL DE FORMATION DIFFÉRENTIELLE DE FAISCEAU ÉQUIPHASE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/094202    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/086752
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 17.12.2012
CIB :
H01Q 1/00 (2006.01), H01Q 1/38 (2006.01), H01Q 19/185 (2006.01)
Déposants : GUANGDONG BROADRADIO COMMUNICATION TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; F4 South Tower, No. 1 Maogang Road, the East of Zhongshan Street, Huangpu Guangzhou, Guangdong 510700 (CN)
Inventeurs : WU, Biqun; (CN).
LIU, Yu; (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EQUIPHASE DIFFERENTIAL BEAMFORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FORMATION DIFFÉRENTIELLE DE FAISCEAU ÉQUIPHASE
(ZH) 等相差分波束形成装置
Abrégé : front page image
(EN)An equiphase differential beamforming apparatus comprising a first metal reflective plate (1), a second metal reflective plate (2), insulating dielectric plates (6), a slide apparatus (4), a dielectric substrate (3), and a feeder network (5) etched on the dielectric substrate. The dielectric substrate (3) and the insulating dielectric plates (6) are sandwiched between the first metal reflective plate (1) and the second metal reflective plate (2). The slide apparatus (4) is connected to the insulating dielectric plates (6) and is for use in driving the multiple insulating dielectric plates (6) to move synchronously. The insulating dielectric plates (6) are overlapped with only a fixed transmission cable (51) in the feeder network (5) while moving. While moving, the equiphase differential beamforming apparatus does not overlap with a power distribution subunit (52), thus preventing the insulating dielectric plates from causing excessive wear to the feeder network. While at the same time, the design that replaces an entire piece of large-sized insulator with the multiple pieces of small-sized insulating dielectric plates not only solves the problem that insulators are prone to bending and deformation, but also reduces manufacturing costs for the equiphase differential beamforming apparatus.
(FR)L'invention concerne un appareil de formation différentielle de faisceau équiphase comprenant une première plaque réfléchissante en métal (1), une deuxième plaque réfléchissante en métal (2), des plaques isolantes diélectriques (6), un appareil de coulissement (4), un substrat diélectrique (3), et un réseau de transport (5) gravé sur le substrat diélectrique. Le substrat diélectrique (3) et les plaques isolantes diélectriques (6) sont pris en sandwich entre la première plaque réfléchissante en métal (1) et la deuxième plaque réfléchissante en métal (2). L'appareil de coulissement (4) est raccordé aux plaques isolantes diélectriques (6) et sert à entraîner le mouvement synchrone des multiples plaques isolantes diélectriques (6). Les plaques isolantes diélectriques (6) sont chevauchées uniquement par un câble de transmission fixe (51) dans le réseau de transport (5) durant le mouvement. Durant le mouvement, l'appareil de formation différentielle de faisceau équiphase ne chevauche pas une sous-unité de distribution d'énergie (52), ce qui évite que les plaques isolantes diélectriques provoquent une usure excessive du réseau de transport. En même temps, la conception qui remplace un morceau entier d'isolant de grande taille par de multiples morceaux de plaques isolantes diélectriques de petite taille résout non seulement le problème de la tendance des isolants à se plier et se déformer, mais réduit aussi les coûts de fabrication pour l'appareil de formation différentielle de faisceau équiphase.
(ZH)一种等相差分波束形成装置,其包括第一金属反射板(1)、第二金属反射板(2)、绝缘介质片(6)、滑动装置(4)、介质基板(3)和蚀刻于介质基板上的馈线网络(5);所述介质基板(3)和绝缘介质片(6)夹在第一金属反射板(1)和第二金属反射板(2)之间;所述滑动装置(4)与绝缘介质片(6)连接,用于带动多个绝缘介质片(6)同步移动,所述绝缘介质片(6)在移动过程中仅与馈线网络(5)中的固定传输线(51)有交迭。所述等相差分波束形成装置,在移动过程中,不与功率分配子单元(52)交迭,避免了绝缘介质片对馈线网络造成多余的损耗。同时,多块小型绝缘介质片代替整块大型绝缘体的设计既解决了绝缘体容易弯曲变形的问题,又降低了等相差分波束形成装置的制造成本。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)