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1. (WO2014094123) CAOUTCHOUC BUTYLE À IMPERMÉABILITÉ ACCRUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/094123    N° de la demande internationale :    PCT/CA2013/001047
Date de publication : 26.06.2014 Date de dépôt international : 16.12.2013
CIB :
C08L 15/00 (2006.01), C08C 19/24 (2006.01), C08J 3/20 (2006.01)
Déposants : LANXESS BUTYL PTE. LTD. [SG/SG]; 3A International Business Park #07-10/18 ICON@IBP, Tower B. Singapore 609935 (SG).
THE UNIVERSITY OF WINDSOR [CA/CA]; 401 Sunset Avenue Windsor, Ontario N9B 3P4 (CA)
Inventeurs : CARMICHAEL, Tricia Breen; (CA).
VOHRA, Akhil; (CA).
FERRARI, Lorenzo; (CA).
SUHAN, Natalie; (CA)
Mandataire : BRUNET, Robert A.H.; c/o Brunet & Co. Ltd. 10712 Melrose Drive Komoka, Ontario N0L 1R0 (CA)
Données relatives à la priorité :
61/738,681 18.12.2012 US
Titre (EN) BUTYL RUBBER WITH INCREASED IMPERMEABILITY
(FR) CAOUTCHOUC BUTYLE À IMPERMÉABILITÉ ACCRUE
Abrégé : front page image
(EN)Surface modification methods based on a combination of plasma and chemical treatments render an unfilled butyl rubber surface highly reactive toward organosilanes, allowing formation of an organosilane self-assembled monolayer (SAM). Plasma oxidation of the butyl rubber surface followed by vapour deposition of SiCl4 produces a hydrophilic surface suitable for anchoring organosilanes. Fabrication of SAMs on this hydrophilic butyl rubber surface with n-octadecyltrichlorosilane (OTS) and trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane (FOTS) via vapour deposition resulted in a 15% and 25% decrease in gas permeability, respectively, with no change in optical transparency of the butyl rubber.
(FR)La présente invention concerne des procédés de modification de surface fondés sur une combinaison de traitements plasma et chimiques qui rendent la surface non chargée d'un caoutchouc butyle hautement réactive envers les organosilanes, ce qui permet la formation d'une monocouche auto-assemblée d'organosilanes (SAM). L'oxydation plasma de la surface du caoutchouc butyle, suivie du dépôt en phase vapeur de SiCl4 produit une surface hydrophile adaptée à l'ancrage d'organosilanes. La formation de SAM à la surface hydrophile dudit caoutchouc butyle au moyen de n-octadécyltrichlorosilane (OTS) et de trichloro(1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane (FOTS) par dépôt en phase vapeur a entraîné une baisse de 15 et 25 %, respectivement, de la perméabilité aux gaz, sans modification de la transparence optique du caoutchouc butyle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)