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1. (WO2014093562) MASQUES MAGNÉTIQUES POUR APPAREIL D'IMPLANTATION D'IONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/093562    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/074516
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 12.12.2013
CIB :
H01J 37/317 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930 (US)
Inventeurs : GRANT, Christopher N.; (US).
VOPAT, Robert B.; (US)
Mandataire : DAISAK, Daniel; Kacvinsky Daisak PLLC 3120 Princeton Pike Suite 303 Lawrenceville, New Jersey 08648 (US)
Données relatives à la priorité :
61/736,624 13.12.2012 US
14/103,296 11.12.2013 US
Titre (EN) MAGNETIC MASKS FOR AN ION IMPLANT APPARATUS
(FR) MASQUES MAGNÉTIQUES POUR APPAREIL D'IMPLANTATION D'IONS
Abrégé : front page image
(EN)The disclosed embodiments relate to ion implanters and particularly to securing mask frames for use in ion implantation. An apparatus (1000) is provided comprising: a mask frame (100); a ferrous slug (110) disposed in the mask frame; and a transfer mechanism (200) including a magnet (210), the magnet configured to clamp to the ferrous slug to retain the mask frame against the transfer mechanism, the transfer mechanism configured to move the mask frame while the mask is retained against the transfer mechanism. Furthermore, a method is provided comprising: moving a mask frame including a ferrous slug proximate to a carrier (300=, the mask frame retained by a transfer mechanism, the transfer mechanism including a magnet clamped to the ferrous slug; placing the mask frame on the carrier; deactivating the magnet to release the ferrous slug; and moving the transfer mechanism away from the mask frame. The method may further comprise activating a magnet (310)in the carrier to clamp to the ferrous slug.
(FR)La présente invention porte sur un appareil d'implantation d'ions configuré pour mesurer la température ou surveiller la dégradation de composants dans l'appareil. L'appareil d'implantation d'ions peut comprendre une platine configurée pour se déplacer dans une première direction, un cadre de masque pour maintenir un ou plusieurs masques disposés sur la platine, un premier capteur optique configuré pour projeter un faisceau optique vers un second capteur optique, et une barre de mesure disposée sur le cadre de masque, la barre de mesure relevée au-dessus de la surface du cadre de masque pour interrompre le faisceau optique lorsque la platine se déplace dans la première direction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)