WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014093529) SURVEILLANCE DE TEMPÉRATURE POUR DES DISPOSITIFS DANS UN APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/093529    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/074465
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 11.12.2013
CIB :
H01J 37/317 (2006.01), H01J 37/304 (2006.01)
Déposants : VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. [US/US]; 35 Dory Road Gloucester, Massachusetts 01930 (US)
Inventeurs : WEBB, Aaron P.; (US).
RIORDON, Benjamin B.; (US).
CARLSON, Charles T.; (US).
GRANT, Christopher N.; (US).
BONECUTTER, Luke; (US).
WEAVER, William T.; (US)
Mandataire : DAISAK, Daniel; Kacvinsky Daisak PLLC 3120 Princeton Pike Suite 303 Lawrenceville, New Jersey 08648 (US)
Données relatives à la priorité :
61/736,701 13.12.2012 US
14/101,954 10.12.2013 US
Titre (EN) TEMPERATURE MONITOR FOR DEVICES IN AN ION IMPLANT APPARATUS
(FR) SURVEILLANCE DE TEMPÉRATURE POUR DES DISPOSITIFS DANS UN APPAREIL D'IMPLANTATION IONIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An ion implant apparatus configured to measure the temperature or monitor the degradation of components in the apparatus is provided. The ion implant apparatus may include a platen configured to move in a first direction, a mask frame to hold one or more masks disposed on the platen, a first optical sensor configured to project an optical beam to a second optical sensor, and a measurement bar disposed on the mask frame, the measurement bar raised above the surface of the mask frame to interrupt the optical beam when the platen moves in the first direction.
(FR)L'invention concerne un appareil d'implantation ionique configuré pour mesurer la température ou pour surveiller la dégradation des composants dans l'appareil. L'appareil d'implantation ionique peut comprendre une platine configurée pour se déplacer dans une première direction, un cadre de masque pour retenir un ou plusieurs masques disposés sur la platine, un premier capteur optique configuré pour projeter un faisceau optique sur un second capteur optique, et une barre de mesure disposée sur le cadre de masque, la barre de mesure étant élevée au-dessus de la surface du cadre de masque afin d'interrompre le faisceau optique lorsque la platine se déplace dans la première direction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)