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1. (WO2014093426) PROCÉDÉS ET CIRCUITS DE MESURE D'UN ÉLÉMENT À HAUTE IMPÉDANCE SUR LA BASE DE MESURES À CONSTANTES DE TEMPS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/093426    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/074266
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 11.12.2013
CIB :
G01R 27/02 (2006.01), G01N 27/60 (2006.01)
Déposants : DUST COMPANY, INC. [US/US]; 8409 Seagate Drive Raleigh, North Carolina 27615 (US)
Inventeurs : FRANTZ, Frederick E.; (US)
Mandataire : MOORE, Scott, D.; Myers Bigel Sibley & Sajovec, P.A. P.O. Box 37428 Raleigh, North Carolina 27627 (US)
Données relatives à la priorité :
13/710,896 11.12.2012 US
Titre (EN) METHODS AND CIRCUITS FOR MEASURING A HIGH IMPEDANCE ELEMENT BASED ON TIME CONSTANT MEASUREMENTS
(FR) PROCÉDÉS ET CIRCUITS DE MESURE D'UN ÉLÉMENT À HAUTE IMPÉDANCE SUR LA BASE DE MESURES À CONSTANTES DE TEMPS
Abrégé : front page image
(EN)A method of measuring impedance includes determining a first time constant based on a known impedance and a capacitor, determining a second time constant based on a target impedance and the capacitor, and determining the target impedance based on the first time constant and the second time constant.
(FR)La présente invention concerne un procédé de mesure d'impédance faisant appel à la détermination d'une première constante de temps sur la base d'une impédance connue et d'un condensateur, à la détermination d'une seconde constante de temps sur la base d'une impédance cible et du condensateur et à la détermination de l'impédance cible sur la base de la première constante de temps et de la seconde constante de temps.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)