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1. (WO2014091997) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET FILM PHOTOSENSIBLE L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/091997    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082703
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 05.12.2013
CIB :
G03F 7/023 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : UEDA Satoko; (JP).
SAWABE Ken; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-271369 12.12.2012 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET FILM PHOTOSENSIBLE L'UTILISANT
(JA) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a positive photosensitive resin composition comprising (A) a modified novolac-type phenolic resin comprising an unsaturated hydrocarbon group, (B) a novolac-type phenolic resin obtained from meta-cresol and para-cresol, (C) a novolac-type phenolic resin obtained from ortho-cresol, (D) a compound that generates an acid from light, and (E) a polybasic acid or a polybasic acid anhydride. The content of the (E) component is less than 40 parts by mass relative to a total amount of 100 parts by mass of the (A) component, the (B) component, the (C) component, and the (D) component.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible positive comprenant (A) une résine phénolique de type novolaque modifiée comprenant un groupe hydrocarboné insaturé, (B) une résine phénolique de type novolaque obtenue à partir de méta-crésol et de para-crésol, (C) une résine phénolique de type novolaque obtenue à partir d'ortho-crésol, (D) un composé qui génère un acide à partir de lumière et (E) un acide polybasique ou un anhydride d'acide polybasique. La teneur du composant (E) est inférieure à 40 parties en masse par rapport à une quantité totale de 100 parties en masse du composant (A), du composant (B), du composant (C) et du composant (D).
(JA) 本発明は、(A)不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂、(B)メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、(C)オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、(D)光により酸を発生する化合物及び(E)多塩基酸又は多塩基酸無水物を含有し、(E)成分の含有量が、(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の総量100質量部に対して、40質量部未満である、ポジ型感光性樹脂組成物に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)