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1. (WO2014091928) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT D'INFORMATIONS D'ORDINATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/091928    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081896
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
CIB :
G01N 21/956 (2006.01), G01B 11/30 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : IWANAGA, Shuji; (JP).
NISHIYAMA, Tadashi; (JP)
Mandataire : KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-271428 12.12.2012 JP
Titre (EN) SUBSTRATE DEFECT INSPECTION METHOD, SUBSTRATE DEFECT INSPECTION DEVICE, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT D'INFORMATIONS D'ORDINATEUR
(JA) 基板の欠陥検査方法、基板の欠陥検査装置及びコンピュータ記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)The present invention captures an image of a substrate to be inspected, and from the captured image of the substrate, calculates image feature values of a defect region wherein pixel values of the substrate image exceed a predetermined threshold value; and, on the basis of the calculated image feature values and data representing the correlation between a predetermined defect size and the image feature values, identifies the size in the height direction of the defect in the defect region, thereby appropriately inspecting the substrate for defects at low cost and high throughput.
(FR)La présente invention capture une image d'un substrat à inspecter, et à partir de l'image capturée du substrat, calcule des valeurs de caractéristique d'image d'une région de défaut dans laquelle des valeurs de pixel de l'image de substrat dépassent une valeur seuil prédéterminée ; et, sur la base des valeurs de caractéristique d'image calculées et des données représentant la corrélation entre une taille de défaut prédéterminée et les valeurs de caractéristique d'image, identifie la taille dans la direction de la hauteur du défaut dans la région de défaut, ce qui permet d'inspecter de manière appropriée le substrat pour des défauts à faible coût et à débit élevé.
(JA) 本発明は、被検査基板を撮像し、撮像された基板の画像から、当該基板画像の画素値が所定の閾値を越えている欠陥領域の画像特徴量を算出し、当該算出された画像特徴量と、予め求められた、欠陥サイズと当該画像特徴量との相関データに基づいて、欠陥領域における欠陥の高さ方向の大きさを特定することで、基板の欠陥検査を低コストで且つ高いスループットで適正に行なう。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)