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1. (WO2014090506) PRODUCTION DE FILMS MINCES DE SILICONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/090506    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/073914
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 15.11.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    10.06.2014    
CIB :
C08J 5/18 (2006.01), C08L 83/04 (2006.01), B29C 47/00 (2006.01)
Déposants : WACKER CHEMIE AG [DE/DE]; Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Inventeurs : KÖLLNBERGER, Andreas; (DE).
SCHWINGHAMMER, Alfred; (DE)
Mandataire : MIESKES, Klaus; Wacker Chemie AG Hanns-Seidel-Platz 4 81737 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 222 992.2 12.12.2012 DE
Titre (DE) HERSTELLUNG DÜNNER SILICONFOLIEN
(EN) PRODUCTION OF THIN SILICONE FILMS
(FR) PRODUCTION DE FILMS MINCES DE SILICONE
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung dünner Siliconfolien, wobei die Foliendicke zwischen 0,1 und 200 μm liegt und die Dickengenauigkeit ±5 % gemessen auf einer Fläche von 200 cm2 beträgt, sowie die nach diesem Verfahren hergestellten Siliconfolien und deren Verwendung.
(EN)The present invention relates to a method for continuous production of thin silicone films, wherein the film thickness is between 0.1 and 200 µm and the thickness precision is ±5% measured on a surface area of 200 cm2. The invention further relates to the silicone films produced according to this method and to the use thereof.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production en continu de films minces de silicone, l'épaisseur de film étant comprise entre 0,1 et 200 μm et la précision d'épaisseur ± 5 % mesurée sur une surface de 200 cm2. L'invention concerne également des films de silicone produits selon ce procédé ainsi que leur utilisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)