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1. (WO2014089906) UTILISATION D'UN AGENT TENSIOACTIF ESTER PHOSPHORIQUE LORS DU POLISSAGE À FONCTION D'ARRÊT AUTOMATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/089906    N° de la demande internationale :    PCT/CN2013/001498
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 03.12.2013
CIB :
C09G 1/02 (2006.01)
Déposants : ANJI MICROELECTRONICS (SHANGHAI) CO., LTD [CN/CN]; Suite 602, Building #5, No.3000 Longdong Ave Zhangjiang Hi-Tech Park, Pudong Shanghai 201203 (CN)
Inventeurs : JING, Jianfen; (CN).
ZHANG, Jian; (CN).
CAI, Xinyuan; (CN)
Mandataire : HANHONG LAW FIRM; Room 1506-07 New Huangpu Financial Building No. 61 East Nanjing Road Shanghai 200002 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210528270.0 10.12.2012 CN
Titre (EN) APPLICATION OF PHOSPHATE ESTER SURFACTANT IN SELF-STOPPING POLISHING
(FR) UTILISATION D'UN AGENT TENSIOACTIF ESTER PHOSPHORIQUE LORS DU POLISSAGE À FONCTION D'ARRÊT AUTOMATIQUE
(ZH) 一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用
Abrégé : front page image
(EN)An application of a phosphate ester surfactant in self-stopping polishing. The phosphate ester surfactant at least comprises a structural formula (1) and/or a structural formula (2), wherein X=RO, RO-(CH2CH2O)n, or RCOO-(CH2CH2O)n; R is an alkyl group or alkyl benzene of C8~C22, or glyceryl(C3H5O3-); n=2~30, and M=H, K, NH4, (CH2CH2O)1~3NH3~1 and/or Na.
(FR)L'invention concerne l'utilisation, lors du polissage à fonction d'arrêt automatique, d'un agent tensioactif ester phosphorique renfermant au moins une structure (1) ou (2), où X=RO, RO-CH2CH2O)n, RCOO-(CH2CH2O)n, R désignant un alkyle ou alkyl-benzène en C8-C22 ou encore une base de glycérol, (C3H5O3-), n étant compris entre 2 et 30, et M=H, K, NH4, (CH2CH2O) 1~3NH3~1 et/ou Na.
(ZH)一种磷酸酯表面活性剂在自停止抛光中的应用,所述磷酸酯类表面活性剂至少含有结构式(1)式(2)的一种或多种。其中:X=RO,RO-(CH2CH2O)n,RCOO-(CH2CH2O)n;R为C8~C22的烷基或烷基苯、甘油基(C3H5O3-);n=2~30,M=H,K,NH4,(CH2CH2O)1~3NH3~1和/或Na。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)