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1. (WO2014089876) DISPOSITIF DE BLINDAGE, MACHINE DE CUISSON DE PRODUIT D'ÉTANCHÉITÉ, ET UN PROCÉDÉ DE CUISSON DE PRODUIT D'ÉTANCHÉITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/089876    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/087178
Date de publication : 19.06.2014 Date de dépôt international : 21.12.2012
CIB :
G02F 1/1339 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO.9-2, Tangming Rd, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (Tous Sauf US).
ZHU, Meina [CN/CN]; (CN) (US only)
Inventeurs : ZHU, Meina; (CN)
Mandataire : CENFO INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 210-212, 2/F, Building "Golden" Design Industrial Park, No.3838, Nanshan Road Nanshan District (Block 11, Industrial Village of Former Nantou Cheng) Shenzhen, Guangdong 518052 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210544651.8 14.12.2012 CN
Titre (EN) SHIELDING DEVICE, SEALANT CURING MACHINE, AND SEALANT CURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE BLINDAGE, MACHINE DE CUISSON DE PRODUIT D'ÉTANCHÉITÉ, ET UN PROCÉDÉ DE CUISSON DE PRODUIT D'ÉTANCHÉITÉ
(ZH) 遮挡装置、框胶硬化机及框胶硬化方法
Abrégé : front page image
(EN)A shielding device (1), a sealant curing machine having the shielding device (1), and a sealant curing method. The shielding device (1) comprises a shielding plate (10) and an electromagnetic adsorption unit (11). The shielding plate (10) comprises a shielding pattern (101) and a light transmission area (103). The electromagnetic adsorption unit (11) is used for adsorbing the shielding plate (10). Through electromagnetic adsorption performed by the electromagnetic adsorption unit (11) on the shielding plate (10), the requirements of the adsorption for flatness and cleanliness of the surface of the shielding plate (10) are low, the production cost and the maintenance cost of a sealant UV curing machine are reduced, and the shielding plate (10) can be more firmly adsorbed.
(FR)L'invention concerne un dispositif de blindage (1), une machine de cuisson de produit d'étanchéité ayant le dispositif de blindage (1), et un procédé de cuisson de produit d'étanchéité. Le dispositif de blindage (1) comporte une plaque de blindage (10) et une unité d'adsorption électromagnétique (11). La plaque de blindage (10) comporte un modèle de blindage (101) et une zone de transmission de lumière (103). L'unité d'adsorption électromagnétique (11) est utilisée à des fins d'adsorption de la plaque de blindage (10). Au moyen de l'adsorption électromagnétique effectuée par l'unité d'adsorption électromagnétique (11) sur la plaque de blindage (10), les exigences de l'adsorption à des fins de planéité et de propreté de la surface de la plaque de blindage (10) sont faibles, le coût de production et le coût d'entretien d'une machine de cuisson aux UV d'un produit d'étanchéité sont réduits, et la plaque de blindage (10) peut être adsorbée de manière plus ferme.
(ZH)一种遮挡装置(1)、包括该遮挡装置(1)的框胶硬化机以及框胶硬化方法,该遮挡装置(1)包括遮挡板(10)和电磁吸附单元(11),该遮挡板(10)包括遮挡图形(101)及透光区(103);电磁吸附单元(11)用于吸附遮挡板(10)。通过电磁吸附单元(11)对遮挡板(10)进行电磁吸附,使得该吸附对遮挡板(10)的表面的平坦度和清洁度要求较低,从而降低了框胶紫外硬化机的制作成本和维护成本;同时,能够使对遮挡板(10)的吸附更为牢靠。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)