WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014089458) APPAREIL ET PROCÉDÉ UTILISANT UN CHAMP ÉLECTRIQUE POUR CRÉER DES MOTIFS DE NANOPARTICULES UNIFORMES SUR DES MATÉRIAUX NON CONDUCTEURS AFIN D'AUGMENTER LA FILTRATION ET POUR L'INCRUSTATION DE FIBRES DANS DES MATÉRIAUX POUR D'AUTRES APPLICATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/089458    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/073620
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 06.12.2013
CIB :
B01D 39/14 (2006.01), B01D 39/08 (2006.01), B01D 67/00 (2006.01), B01D 69/02 (2006.01), B01D 46/54 (2006.01)
Déposants : RESEARCH TRIANGLE INSTITUTE [US/US]; P.O. Box 12194 3040 Cornwallis Road Research Triangle Park, NC 27709 (US)
Inventeurs : CLAYTON, Anthony, Clint; (US).
WALLS, Howard, Jerome; (US).
RIETH, Adam, Joseph; (US).
ENSOR, David, Samuel; (US)
Mandataire : KUESTERS, Eckhard, H.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P. 1940 Duke Street Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
61/734,105 06.12.2012 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD USING AN ELECTRIC FIELD FOR CREATING UNIFORM NANOFIBER PATTERNS ON NONCONDUCTIVE MATERIALS TO ENHANCE FILTRATION AND FOR EMBEDMENT OF FIBERS INTO MATERIALS FOR OTHER APPLICATIONS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ UTILISANT UN CHAMP ÉLECTRIQUE POUR CRÉER DES MOTIFS DE NANOPARTICULES UNIFORMES SUR DES MATÉRIAUX NON CONDUCTEURS AFIN D'AUGMENTER LA FILTRATION ET POUR L'INCRUSTATION DE FIBRES DANS DES MATÉRIAUX POUR D'AUTRES APPLICATIONS
Abrégé : front page image
(EN)A filtration device including a base filtration material having openings for fluid flow there through and a filtration medium. The filtration medium includes a plurality of patterned nanofibers formed on the base filtration material. The filtration medium has a figure of merit greater than 30 kPa-1, where the figure of merit is given by -Log (Pt)/ΔP, where Pt is the fractional penetration of a specific aerosol particle diameter and ΔΡ is a pressure drop across the filtration medium corresponding to a face velocity of 5.3 cm/s and particle size of 0.3 microns.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de filtration comprenant un matériau de filtration de base présentant des ouvertures pour qu'un fluide le traverse et un milieu de filtration. Le milieu de filtration comprend une pluralité de nanofibres à motifs formées sur le matériau de filtration de base. Le milieu de filtration possède un facteur de mérite supérieur à 30 kPa-1, le facteur de mérite étant donné par -Log (Pt)/ΔP, où Pt est la pénétration fractionnelle d'un diamètre de particule d'aérosol spécifique et ΔΡ est une chute de pression dans le milieu de filtration correspondant à une vitesse frontale de 5,3 cm/s et une taille de particules de 0,3 micromètres.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)