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1. (WO2014088958) SYSTÈMES D'ACCÉLÉRATEUR DE PARTICULES CHARGÉES COMPRENANT UNE COMPENSATION D'ÉNERGIE ET DE DOSE DE FAISCEAU ET PROCÉDÉS POUR CES DERNIERS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/088958    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/072643
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 02.12.2013
CIB :
H05H 13/04 (2006.01)
Déposants : VARIAN MEDICAL SYSTEMS, INC. [US/US]; 3100 Hanson Way Palo Alto, CA 94306 (US)
Inventeurs : CHEN, Gongyin; (US).
ROMRIELL, Kenneth Todd; (US).
HOWELL, David Alan; (US)
Mandataire : SKLAR, Brandon N.; Cozen O'Connor 277 Park Avenue New York, NY 10172 (US)
Données relatives à la priorité :
13/692,344 03.12.2012 US
Titre (EN) CHARGED PARTICLE ACCELERATOR SYSTEMS INCLUDING BEAM DOSE AND ENERGY COMPENSATION AND METHODS THEREFOR
(FR) SYSTÈMES D'ACCÉLÉRATEUR DE PARTICULES CHARGÉES COMPRENANT UNE COMPENSATION D'ÉNERGIE ET DE DOSE DE FAISCEAU ET PROCÉDÉS POUR CES DERNIERS
Abrégé : front page image
(EN)A method of operating an acceleration system comprises injecting charged particles into an RF accelerator, providing RF power to the accelerator, and accelerating the injected charged particles. The accelerated charged particles may impact a target to generate radiation. The RF power is based, at least in part, on past performance of the system, to compensate, at least partially, for dose and/or energy instability. A controller may provide a compensated control voltage ("CCV") to an electric power source based on the past performance, to provide compensated electric power to the RF source. A decreasing CCV, such as an exponentially decreasing CCV, may be provided to the electric power source during beam on time periods. The CCV to be provided may be increased, such as exponentially increased toward a maximum value, during beam off time periods. The controller may be configured by a compensation circuit and/or software. Systems are also described.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de faire fonctionner un système d'accélération, ledit procédé consistant à injecter des particules chargées dans un accélérateur radiofréquence (RF), à fournir une puissance RF à l'accélérateur et à faire accélérer les particules chargées injectées. Les particules chargées accélérées peuvent heurter une cible pour produire un rayonnement. La puissance RF est basée, du moins en partie, sur la dernière performance du système afin de compenser, du moins partiellement, l'instabilité de la dose et/ou de l'énergie. Un dispositif de commande peut fournir une tension de commande compensée (« CCV ») à une source de courant électrique sur la base de la dernière performance, afin de fournir un courant électrique compensé à la source RF. Une tension CCV qui diminue, telle qu'une tension CCV qui diminue de manière exponentielle, peut être fournie à la source de courant électrique pendant les périodes de temps d'activation du faisceau. La tension CCV qui doit être fournie, peut être accrue, telle qu'une augmentation exponentielle vers une valeur maximale, pendant les périodes de temps de désactivation du faisceau. Le dispositif de commande peut être configuré par un circuit de compensation et/ou un logiciel de compensation. La présente invention se rapporte également à des systèmes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)