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1. (WO2014088670) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'IDENTIFICATION AUTONOME DE CONTAMINATION DE PARTICULES DUE À DES ÉVÉNEMENTS DE PROCESSUS ISOLÉS ET DES TENDANCES SYSTÉMATIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/088670    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/059722
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 13.09.2013
CIB :
G05B 19/418 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 (JP).
KAUSHAL, Sanjeev [US/US]; (US) (US only)
Inventeurs : KAUSHAL, Sanjeev; (US).
WATERMAN, Aaron Archer; (US).
MOROZUMI, Yuichiro; (JP).
OZAKI, Tetsushi; (JP).
PATEL, Sukesh Janubhai; (US)
Mandataire : AMIN, Himanshu S.; Amin, Turocy & Calvin, LLP 127 Public Square 57th Fl., Key Tower Cleveland, Ohio 44114 (US)
Données relatives à la priorité :
13/706,712 06.12.2012 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR AUTONOMOUS IDENTIFICATION OF PARTICLE CONTAMINATION DUE TO ISOLATED PROCESS EVENTS AND SYSTEMATIC TRENDS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'IDENTIFICATION AUTONOME DE CONTAMINATION DE PARTICULES DUE À DES ÉVÉNEMENTS DE PROCESSUS ISOLÉS ET DES TENDANCES SYSTÉMATIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A system and method for autonomously tracing a cause of particle contamination during semiconductor manufacture is provided. A contamination analysis system analyzes tool process logs together with particle contamination data for multiple process runs to determine a relationship between systematic particle contamination levels and one or more tool parameters. This relationship is used to predict expected contamination levels associated with regular usage of the tool, and to identify which tool parameters have the largest impact on expected levels of particle contamination. The contamination analysis system also identifies process logs showing unexpected deviant particle contamination levels that exceed expected contamination levels, and traces the cause of the deviant particle contamination to particular process log parameter events.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé de traçage autonome d'une cause de contamination de particules durant une fabrication de semi-conducteur. Un système d'analyse de contamination analyse des enregistrements de processus d'outil avec des données de contamination de particules pour de multiples passages de processus afin de déterminer une relation entre des niveaux de contamination de particules systématiques et un ou plusieurs paramètres d'outil. Cette relation est utilisée pour prévoir des niveaux de contamination attendus associés à une utilisation normale de l'outil, et pour identifier quels paramètres d'outil possèdent le plus grand impact sur les niveaux attendus de contamination de particules. Le système d'analyse de contamination identifie également des enregistrements de processus montrant des niveaux de contamination de particules déviante inattendus qui dépassent des niveaux de contamination attendus, et trace la cause de la contamination de particules déviante sur des événements de paramètre d'enregistrement de processus particuliers.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)