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1. (WO2014087817) RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, STRATIFIÉ CONTENANT LADITE RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ CONTENANT LADITE RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT POUR LA NANOIMPRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/087817    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/080635
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 13.11.2013
CIB :
C08F 220/58 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), C08F 220/30 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 4-1-8, Honcho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP)
Inventeurs : YABU Hiroshi; (JP).
SAITO Yuta; (JP)
Mandataire : SHIGENOBU Kazuo; 19F, Garden Court, 4-1, Kioi-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028578 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-266628 05.12.2012 JP
Titre (EN) RESIN FOR NANOIMPRINTING, LAMINATE CONTAINING RESIN FOR NANOIMPRINTING, PRINTED BOARD CONTAINING RESIN FOR NANOIMPRINTING, AND METHOD FOR PRODUCING NANOIMPRINT SUBSTRATE
(FR) RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, STRATIFIÉ CONTENANT LADITE RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ CONTENANT LADITE RÉSINE POUR LA NANOIMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT POUR LA NANOIMPRESSION
(JA) ナノインプリント用樹脂、該樹脂を含む積層体、該樹脂を含むプリント基板、及びナノインプリント基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a resin for nanoimprinting, which is capable of preventing removal of a transfer-receiving resin from a substrate when a mold is separated during nanoimprinting, and which is also capable of transferring a pattern on a mold to a transfer-receiving resin with high accuracy during thermal nanoimprinting, while improving the throughput. A resin for nanoimprinting, which is represented by formula (1). (In the formula, each of R1-R5 independently represents -H or -OH, and at least one of the R1-R5 moieties represents -OH; R6 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1-20 carbon atoms, an aryl group having 6-20 carbon atoms or an aralkyl group having 7-20 carbon atoms; X represents an amide or an ester; Y may be absent, or represents an amide or an ester; P represents an integer of 1-10; and each of m and n represents an integer of 1 or more.)
(FR)La présente invention concerne une résine pour la nanoimpression, qui permet de prévenir l'élimination d'une résine recevant le transfert d'un substrat lorsqu'un moule est séparé pendant la nanoimpression, et qui permet également de transférer un motif sur un moule vers une résine recevant le transfert avec une précision élevée pendant la nanoimpression thermique, tout en améliorant la capacité de production. L'invention concerne plus particulièrement une résine pour la nanoimpression représentée par la formule (1). (Dans la formule, chacun des R1-R5 représente indépendamment -H ou -OH, et au moins une des fractions R1-R5 représente -OH ; R6 représente un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique ayant de 1 à 20 atomes de carbone, un groupe aryle ayant de 6 à 20 atomes de carbone ou un groupe aralkyle ayant de 7 à 20 atomes de carbone ; X représente un amide ou un ester ; Y peut être absent, ou représenter un amide ou un ester ; P représente un nombre entier situé dans la plage allant de 1 à 10 ; et m et n représentent chacun un nombre entier supérieur ou égal à 1.)
(JA) ナノインプリントをする際、モールドを剥離する時に基板から被転写樹脂が剥離されることを防止する、また、熱ナノインプリントする際にスループットが向上できるとともに精度よくモールド上のパターンを被転写樹脂に転写することができるナノインプリント用樹脂を提供する。 下記式(1)で表されるナノインプリント用樹脂。(式中、R1~R5は、それぞれ独立に-H又は-OHを表しR1~R5の少なくとも1つは-OHである。R6は炭素数1~20の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、炭素数6~20のアリール基、又は炭素数7~20のアラルキル基を表す。Xは、アミド又はエステルを表す。Yは、アミド又はエステルを表すが、含まれていなくてもよい。Pは1~10の整数を表す。m及びnは1以上の整数である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)