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1. (WO2014087592) DISPOSITIF D'ALIMENTATION ET DE GAZÉIFICATION DE CHARGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/087592    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/006812
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 20.11.2013
CIB :
C23C 16/448 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Déposants : FUJIKIN INCORPORATED [JP/JP]; 3-2, Itachibori 2-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500012 (JP)
Inventeurs : HIDAKA, Atsushi; (JP).
NAGASE, Masaaki; (JP).
YAMASHITA, Satoru; (JP).
NISHINO, Kouji; (JP).
IKEDA, Nobukazu; (JP)
Mandataire : TANIDA, Ryuichi; Toa Bldg., 5-7, Minami-honmachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410054 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-267021 06.12.2012 JP
Titre (EN) FEEDSTOCK GASIFICATION AND SUPPLY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ALIMENTATION ET DE GAZÉIFICATION DE CHARGE
(JA) 原料気化供給装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention allows nearly all raw gas, whether from solid feedstock or liquid feedstock, to be stably supplied to a process chamber at high purity and at a desired concentration while controlling the flow rate with high precision, and to do so by making the gas into raw gas with a desired high temperature and high vapor pressure without causing thermal breakdown. Provided is a feedstock gasification and supply device, comprising a feedstock receiving tank, a gasifier for gasifying a liquid pressure fed from a liquid receiving tank, a flow rate control device for adjusting the flow rate of the raw gas from the gasifier, and a heating device for heating the gasifier, the high-temperature pressure-type flow rate control device, and desired sections of a flow path connected to the gasifier and the flow rate control device, wherein liquid-contacting parts or gas-contacting parts of metal surfaces of at least the feedstock receiving tank, the gasifier, the flow rate control device, the flow path that links these instruments and devices, or an opening-and-closing valve that is disposed in the flow path are subjected to Al2O3 passivation treatment, Cr2O3 passivation treatment, or FeF2 passivation treatment.
(FR)L'invention permet à presque tous les gaz bruts, qu'ils proviennent d'une charge solide ou d'une charge liquide, d'alimenter de manière stable une chambre de traitement avec une pureté élevée et une concentration souhaitée tout en commandant le débit avec une précision élevée, et à cette fin le gaz est transformé en gaz brut à une température élevée souhaitée et à une pression de vapeur élevée sans entraîner de claquage thermique. L'invention concerne un dispositif d'alimentation et de gazéification de charge comprenant une cuve de réception de charge, un gazéifieur pour gazéifier un liquide sous pression provenant de la cuve de réception de liquide, un dispositif de commande de débit pour régler le débit du gaz brut provenant du gazéifieur, et un dispositif de chauffage pour chauffer le gazéifieur. Le dispositif de commande de débit de type sous pression/haute température, des parties souhaitées d'un chemin d'écoulement reliées au gazéifieur et au dispositif de commande de débit, les parties en contact avec le liquide ou avec le gaz des surfaces métalliques d'au moins la cuve de réception de gaz, le gazéifieur, le dispositif de commande de débit, le chemin d'écoulement qui relie ces instruments et dispositifs, ou une soupape d'ouverture et de fermeture qui est placée dans le chemin d'écoulement sont soumis à un traitement de passivation par Al2O3, un traitement de passivation par Cr2O3 ou un traitement de passivation par FeF2.
(JA) 本発明は、固体原料であっても、或いは液体原料であっても、殆どの原料ガスを、熱分解を起こすこと無しに所望の高温、高蒸気圧の原料ガスとすることにより、高純度で且つ所望の濃度の原料ガスを高精度で流量制御しつつ、プロセスチャンバへ安定して供給できるようにする。 本発明は、原料受入タンクと、液体受入タンクから圧送されてきた液体を気化する気化器と、気化器からの原料ガスの流量を調整する流量制御装置と、気化器と高温型圧力式流量制御装置とこれ等に接続された流路の所望部分を加熱する加熱装置とから構成した原料ガス供給装置において、少なくとも前記原料受入タンクと気化器と流量制御装置と前記各機器装置間を連結する流路と流路に介設した開閉弁バルブのいずれかの金属表面の各接液部又は接ガス部を、Al2O3不働態処理又はCr2O3不働態処理又はFeF2不働態処理をしたものにする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)