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1. (WO2014086861) TROUSSE DE MAQUILLAGE COMPRENANT UNE COMPOSITION DE BASE RÉSISTANTE AU DÉMAQUILLAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/086861    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/075535
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 04.12.2013
CIB :
A61K 8/31 (2006.01), A61K 8/34 (2006.01), A61Q 3/02 (2006.01), A61Q 3/04 (2006.01), A61K 8/81 (2006.01), A61K 8/84 (2006.01), A61K 8/87 (2006.01), A61K 8/88 (2006.01), A61K 8/89 (2006.01)
Déposants : L'OREAL [FR/FR]; 14, rue Royale F-75008 Paris (FR)
Inventeurs : KERGOSIEN, Guillaume; (FR)
Mandataire : DOMENEGO, Bertrand; Cabinet Lavoix 2, place d'Estienne d'Orves F-75009 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
1261691 05.12.2012 FR
61/754,040 18.01.2013 US
Titre (EN) MAKE-UP KIT COMPRISING A BASE COMPOSITION RESISTANT TO MAKE-UP REMOVAL
(FR) TROUSSE DE MAQUILLAGE COMPRENANT UNE COMPOSITION DE BASE RÉSISTANTE AU DÉMAQUILLAGE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a kit for make-up and/or care of nails and/or false nails, comprising: - a composition C1 for make-up and/or care of nails and/or false nails comprising at least one film-forming polymer, said polymer being insoluble in acetone, methyl acetate, and ethyl acetate, and - a make-up removal composition C2 comprising at least one volatile solvent S2 selected from the group consisting of C2-C5 alcohols, C5-C12 alkanes, and mixtures thereof, said solvent S2 being able to solubilize the film-forming polymer of composition C1.
(FR)La présente invention porte sur une trousse pour le maquillage et/ou les soins des ongles et/ou de faux ongles, comprenant : une composition C1 pour le maquillage et/ou les soins des ongles et/ou de faux ongles, comprenant au moins un polymère filmogène, ledit polymère étant insoluble dans l'acétone, l'acétate de méthyle et l'acétate d'éthyle ; et une composition de démaquillage C2 comprenant au moins un solvant volatil S2 choisi dans le groupe constitué par les alcools en C2-C5, les alcanes en C5-C12 et les mélanges de ceux-ci, ledit solvant S2 pouvant solubiliser le polymère filmogène de la composition C1.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)