WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014086674) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'IRRADIATION D'OBJETS AVEC UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/086674    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/075082
Date de publication : 12.06.2014 Date de dépôt international : 29.11.2013
CIB :
B67C 7/00 (2006.01), G01T 1/02 (2006.01), G01T 1/29 (2006.01), G01R 19/00 (2006.01), A61L 2/08 (2006.01), B65B 55/08 (2006.01), G21K 5/10 (2006.01), H01J 47/14 (2006.01)
Déposants : TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A. [CH/CH]; 70, Avenue Général-Guisan CH-1009 Pully (CH)
Inventeurs : NÄSLUND, Lars-Åke; (SE).
BENGTSSON, Kristoffer; (SE).
MELLBIN, Håkan; (SE).
HALLSTADIUS, Hans; (SE).
HANSEN, Fredrik; (SE).
LAVALLE, Marco; (IT)
Mandataire : ASSOCIATION "TETRA PAK - ATTORNEYS SE"; AB Tetra Pak, Patent Department Ruben Rausings gata S-22186 Lund (SE)
Données relatives à la priorité :
12195285.7 03.12.2012 EP
Titre (EN) DEVICE FOR MONITORING AN ELECTRON BEAM VIA AN ELECTRICAL SENSOR WITH MULTIPLE CONDUCTORS
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'IRRADIATION D'OBJETS AVEC UN FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an irradiation device (36) for irradiating objects (12) with electron beams (16). The irradiation device (36) comprisesat least one electron beam emitter (10) having an electron exit window (20)and at least one sensor device (56) for detecting a first dose control parameter of the electron beam (16). The electron beam emitter (10) is adapted to move past the sensor device (56) such that the electron beam (16) emitted from the electron exit window (20) passes within a sensing area (58) of the sensor device (56). Said sensor device comprises more than one conductor (64) each having a conductor surface (68) in the sensing area (58) of the sensor device (56), and the conductor surface (68) is adapted to be exposed to electrons of said electron beam (16).The invention also relates to a method.
(FR)La présente invention concerne un dispositif (36) d'irradiation pour irradiation d'objets (12) avec des faisceaux (16) d'électrons. Le dispositif (36) d'irradiation comprend au moins un émetteur (10) de faisceau d'électrons ayant une fenêtre (20) de sortie d'électrons et au moins un dispositif (56) de capteur pour détection d'un premier paramètre de commande de dose du faisceau (16) d'électrons. L'émetteur (10) de faisceau d'électrons est conçu pour se déplacer devant le dispositif (56) de capteur de telle sorte que le faisceau (16) d'électrons émis par la fenêtre (20) de sortie d'électrons passe à l'intérieur d'une zone (58) de détection du dispositif (56) de capteur. Ledit dispositif de capteur comprend plus d'un conducteur (64) ayant chacun une surface (68) de conducteur dans la zone (58) de détection du dispositif (56) de capteur, et la surface (68) de conducteur est conçue pour être exposée à des électrons dudit faisceau (16) d'électrons. La présente invention concerne également un procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)