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1. (WO2014085518) COMPOSITIONS À LIBÉRATION CONTRÔLÉE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/085518    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/072124
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.08.2014    
CIB :
A01N 25/26 (2006.01), A01N 43/04 (2006.01), A61K 31/715 (2006.01)
Déposants : KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC. [US/US]; 2300 Winchester Rd. Neenah, Wisconsin 54956 (US).
WOOD, Willard E. [US/US]; (US)
Inventeurs : WOOD, Willard E.; (US).
YAHIAOUI, Ali; (US)
Mandataire : SARAGENO, Lori; 50 South Sixth Street, Suite 1500 Minneapolis, Minnesota 55402-1498 (US)
Données relatives à la priorité :
61/732,103 30.11.2012 US
Titre (EN) CONTROLLED RELEASE COMPOSITIONS AND METHODS OF USING
(FR) COMPOSITIONS À LIBÉRATION CONTRÔLÉE ET PROCÉDÉS D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)Cyclodextrin compositions, including a hydrophobic carrier and a cyclodextrin complex, are formed and disposed on a variety of substrates using conditions that avoid substantial loss of the complexed compound from the cyclodextrin complex, even where the complexed compound is a gas a common ambient temperatures (e.g. 20°C). Flexographic printing is particularly useful for disposing the cyclodextrin compositions on one or more substrates. Substrates treated with the cyclodextrin complexes are useful for subsequent release of the complexed compound.
(FR)L'invention concerne des compositions de cyclodextrine incluant un excipient hydrophobe et un complexe de cyclodextrine, qui sont formées et placées sur divers substrats, dans des conditions permettant d'éviter une perte sensible du composé complexé par rapport au complexe de cyclodextrine, même lorsque le composé complexé est un gaz présent à des températures ambiantes ordinaires (p. ex. 20°C). Une impression flexographique est particulièrement utile pour poser les compositions de cyclodextrine sur un ou plusieurs substrat(s). Les substrats traités au moyen de ces complexes de cyclodextrine sont utiles en vue d'une libération ultérieure du composé complexé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)