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1. (WO2014085343) PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR MESURER DES DIMENSIONS CRITIQUES RELATIVES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/085343    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/071733
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 25.11.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : XIAO, Hong; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; KLA-TENCOR CORP. Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/731,580 30.11.2012 US
13/772,929 21.02.2013 US
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR MEASUREMENT OF RELATIVE CRITICAL DIMENSIONS
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL POUR MESURER DES DIMENSIONS CRITIQUES RELATIVES
Abrégé : front page image
(EN)One embodiment relates to a method of measuring a relative critical dimension (RCD) during electron beam inspection of a target substrate. A reference image is obtained. A region of interest is defined in the reference image. A target image is obtained using an electron beam imaging apparatus. The target and reference images are aligned, and the region of interest is located in the target image. Measurement is then made of the RCD within the region of interest in the target image. Another embodiment relates to a method of measuring a RCD which involves scanning along a scan length that is perpendicular to the RCD. Point RCDs along the scan length are measured. A filter is applied to the point RCDs, and an average of the point RCDs is computed. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.
(FR)Dans l'un de ses modes de réalisation, la présente invention se rapporte à un procédé adapté pour mesurer une dimension critique relative (RCD) durant l'inspection d'un faisceau d'électrons d'un substrat cible. Une image de référence est obtenue. Une région d'intérêt est définie dans l'image de référence. Une image cible est obtenue au moyen d'un appareil d'imagerie à faisceau d'électrons. L'image cible et l'image de référence sont alignées, et la région d'intérêt est localisée dans l'image cible. Un mesurage est alors exécuté de la RCD à l'intérieur de la région d'intérêt dans l'image cible. Dans un autre mode de réalisation, la présente invention se rapporte à un procédé adapté pour mesurer une RCD. Ce procédé consiste à exécuter un balayage dans le sens d'une longueur de balayage qui est perpendiculaire à la RCD. Des RCD de points dans le sens de la longueur de balayage sont mesurées. Un filtre est appliqué sur les RCD de points, et une moyenne des RCD de points est calculée. D'autres modes de réalisation, aspects et caractéristiques de la présente invention sont également décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)