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1. (WO2014085307) DÉPÔT PAR ROTATION COMBINATOIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/085307    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/071628
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 25.11.2013
CIB :
B05D 1/32 (2006.01)
Déposants : INTERMOLECULAR, INC. [US/US]; 3011 North First Street San Jose, California 95134 (US)
Inventeurs : ENDO, Richard R.; (US).
KELEKAR, Rajesh; (US)
Mandataire : HELMS, JR., Aubrey L.; 3011 North First Street San Jose, California 95134 (US)
Données relatives à la priorité :
13/685,961 27.11.2012 US
Titre (EN) COMBINATORIAL SPIN DEPOSITION
(FR) DÉPÔT PAR ROTATION COMBINATOIRE
Abrégé : front page image
(EN)A spin deposition apparatus includes a deposition mask configured to be arranged proximate a target substrate. The deposition mask includes at least one fluid reservoir offset from a rotational axis of the deposition mask and configured to hold fluid for dispersal on a portion of a surface of the target substrate.
(FR)L'invention concerne un appareil de dépôt par rotation, qui comprend un masque de dépôt configuré pour être agencé à proximité d'un substrat cible. Le masque de dépôt comprend au moins un réservoir de fluide décalé d'un axe de rotation du masque de dépôt et configuré pour contenir un fluide à disperser sur une partie d'une surface du substrat cible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)