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1. (WO2014085201) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/085201    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/071312
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 21.11.2013
CIB :
H01L 21/324 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : ADAMS, Bruce E.; (US).
MOFFATT, Stephen; (GB)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, LLP 24 Greenway Plaza, Suite 1600 Houston, TX 77046 (US)
Données relatives à la priorité :
61/730,924 28.11.2012 US
Titre (EN) THERMAL TREATMENT METHODS AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE TRAITEMENT THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments described herein provide methods and apparatus for thermally treating a substrate. A first radiant energy source that delivers a first radiation at a first fluence and a second radiant energy source that delivers a second radiation at a second fluence are disposed to direct energy toward a substrate support positioned to receive the first radiation at a first location and the second radiation at a second location, wherein the first fluence is 10 to 100 times the second fluence and the first radiation cannot reach the second location. The first radiant energy source may be a laser, and the second radiant energy source may be a plurality of lasers, for example a pulsed laser assembly with a plurality of pulsed lasers. The second radiant energy source may also be a flash lamp. The first and second radiant energy sources may be in the same chamber or different chambers.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention portent sur des procédés et un appareil de traitement thermique de substrat. Une première source d'énergie radiante qui délivre un premier rayonnement à une première fluence et une seconde source d'énergie radiante qui délivre un second rayonnement à une seconde fluence sont disposées pour diriger une énergie vers un support de substrat positionné pour recevoir le premier rayonnement au niveau d'une première position et le second rayonnement au niveau d'une seconde position, la première fluence étant de 10 à 100 fois la seconde fluence et le premier rayonnement ne pouvant pas atteindre la seconde position. La première source d'énergie radiante peut être un laser et la seconde source d'énergie radiante peut être une pluralité de lasers, par exemple un ensemble laser pulsé ayant une pluralité de lasers pulsés. La seconde source d'énergie radiante peut également être une lampe éclair. Les première et seconde sources d'énergie radiante peuvent être dans la même chambre ou des chambres différentes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)