WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014084882) NORMALISATION DE TOUCHE SENSIBLE À LA PRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084882    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/028770
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 02.03.2013
CIB :
G06F 3/02 (2006.01)
Déposants : MICROSOFT CORPORATION [US/US]; One Microsoft Way Redmond, Washington 98052-6399 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : SHAW, Timothy C.; (US).
BELESIU, Jim Tom; (US).
DIETZ, Paul Henry; (US).
STOUMBOS, Christopher Harry; (US).
MATHIAS, Dennis J.; (US).
WHITT, David Otto, III; (US).
MCLAUGHLIN, Robyn Rebecca Reed; (US).
SCHNEIDER, Summer L.; (US).
WAHL, Eric Joseph; (US).
WISE, James H.; (US).
LEON, Camilo; (US).
AAGAARD, Karsten; (US).
OLIVER, Thomas Charles; (US).
CADY, Andrew N.; (US).
SCHULTZ, Bernard Maurice; (US).
DIGHDE, Rajesh Manohar; (US).
DRASNIN, Sharon; (US).
SIDDIQUI, Kabir; (US).
ISHIHARA, James Alec; (US).
WANG, Hua; (US).
GROENE, Ralf; (US).
PELLEY, Joel Lawrence; (US).
KASSELS, Jay Scott; (US).
SPOONER, Richard Peter; (US).
MICKELSON, Matthew David; (US).
HUALA, Rob; (US).
VANDERVOORT, David C.; (US).
PLEAKE, Todd David; (US).
LUTZ, Moshe R.; (US).
MAIL, Scott Mitchel; (US).
WHITMAN, Christopher A.; (US).
OLER, Van Winston; (US).
UMENO, Hiroo; (US).
PEREK, David R.; (US).
SCHWAGER, Michael A.; (US).
SEILSTAD, Mark J.; (US).
REED, Anthony Christian; (US).
CUMMINGS, Stephan Alexander; (US).
JENSEN, Darryl I.; (US).
PANAY, Panos C.; (US).
STRANDE, Hakon; (US).
GOH, Chun Beng; (US).
MANTOOTH, Harold F.; (US).
MARSHALL, James Charles; (US).
PEDERSEN, Matthew G.; (US).
YOUNG, Robert D.; (US).
SHERMAN, Nathan C.; (US).
GIBSON, Scott K.; (US).
SYKES, Shane Aaron; (US).
LANE, David M.; (US).
OBIE, Gene Robert; (US).
GIAIMO, III, Edward C.; (US).
NEFF, David; (US).
SOUSA, Jose R.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/606,321 02.03.2012 US
61/606,301 02.03.2012 US
61/606,313 02.03.2012 US
61/606,333 02.03.2012 US
61/606,336 02.03.2012 US
61/607,451 06.03.2012 US
61/613,745 21.03.2012 US
13/468,918 10.05.2012 US
Titre (EN) PRESSURE SENSITIVE KEY NORMALIZATION
(FR) NORMALISATION DE TOUCHE SENSIBLE À LA PRESSION
Abrégé : front page image
(EN)Pressure sensitive key techniques are described. In one or more implementations, a device includes at least one pressure sensitive key having a flexible contact layer spaced apart from a sensor substrate by a spacer layer, the flexible contact layer configured to flex responsive to pressure to contact the sensor substrate to initiate an input, for a computing device, associated with the pressure sensitive key. At least one of the flexible contact layer or the sensor substrate are configured to at least partially normalize an output resulting from pressure applied at a first location of the flexible contact layer with an output resulting from pressure applied at a second location of the flexible contact layer that has lesser flexibility than the first location.
(FR)L'invention concerne des techniques de touche sensible à la pression. Dans une ou plusieurs mises en œuvre, un dispositif comprend au moins une touche sensible à la pression ayant une couche de contact souple espacée d'un substrat de capteur par une couche d'espacement, la couche de contact souple étant configurée pour se plier en réponse à une pression pour venir en contact avec le substrat de capteur afin d'initier une entrée, pour un dispositif informatique, associée à la touche sensible à la pression. Au moins l'un de la couche de contact souple ou du substrat de capteur est configuré pour normaliser au moins partiellement une sortie résultant de la pression appliquée à un premier emplacement de la couche de contact souple avec une sortie résultant de la pression appliquée à un second emplacement de la couche de contact souple qui a une souplesse inférieure au premier emplacement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)