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1. (WO2014084856) MEMBRANE DE GRAPHÈNE COMPRENANT DES PORES À L’ÉCHELLE NANOMÉTRIQUE DE TAILLE AJUSTABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084856    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/067392
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 30.11.2012
CIB :
C01B 31/04 (2006.01)
Déposants : EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT, LLC [US/US]; 2711 Centerville Road, Suite 400 Wilmington, DE 19808 (US)
Inventeurs : MILLER, Seth, A.; (US).
DUERKSEN, Gary, L.; (US)
Mandataire : TURK, Carl, K.; Turk IP Law, LLC 2885 Sanford Ave. S.W. #23998 Grandville, MI 49418 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) GRAPHENE MEMBRANE WITH SIZE-TUNABLE NANOSCALE PORES
(FR) MEMBRANE DE GRAPHÈNE COMPRENANT DES PORES À L’ÉCHELLE NANOMÉTRIQUE DE TAILLE AJUSTABLE
Abrégé : front page image
(EN)Technologies are generally described for a graphene membrane with uniformly-sized nanoscale pores that may be prepared at a desired size using colloidal lithography. A graphene monolayer may be coated with colloidal nanoparticles using self-assembly, followed by off-axis metal layer deposition, for example. The metal layer may form on the colloidal nanoparticles and on portions of the graphene not shadowed by the nanoparticles. The nanoparticles may be removed to leave a negative metal mask that exposes the underlying graphene through holes left by the removed nanospheres. The bare graphene may be etched to create pores using an oxygen plasma or similar material, while leaving metal-masked regions intact. Pore size may be controlled according to size of colloidal nanoparticles and angle of metal deposition relative to the substrate. The process may result in a dense, hexagonally packed array of uniform holes in graphene for use as a membrane, especially in liquid separations.
(FR)La présente invention concerne de manière générale des technologies destinées à une membrane de graphène comprenant des pores à l'échelle nanométrique de taille uniforme qui peuvent être préparés à une taille souhaitée à l'aide d'une lithographie colloïdale. Une monocouche de graphène peut être revêtue de nanoparticules colloïdales en mettant en œuvre un auto-assemblage, suivi d'un dépôt non axial de couche métallique, par exemple. La couche métallique peut être formée sur les nanoparticules colloïdales et sur des parties du graphène qui ne sont pas recouvertes par les nanoparticules. Les nanoparticules peuvent être enlevées pour laisser un masque métallique négatif qui expose le graphène sous-jacent à travers des trous laissés par les nanosphères enlevées. Le graphène nu peut être attaqué pour créer des pores à l'aide d'un plasma d'oxygène ou d'une substance similaire, tout en laissant intactes les régions masquées par le métal. La taille des pores peut être régulée en fonction de la taille des nanoparticules colloïdales et l'angle de dépôt métallique par rapport au substrat. Le procédé permet d'obtenir un réseau dense, compacté de manière hexagonale, de trous uniformes dans le graphène destiné à être utilisé comme membrane, en particulier dans les séparations de liquides.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)