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1. (WO2014084696) SUBSTRAT CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084696    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/011073
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 02.12.2013
CIB :
G06F 3/041 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : HWANG, Ji Young; (KR).
SEONG, Jiehyun; (KR)
Mandataire : CHUNG, Soon-Sung; 6F, Sambo Bldg., 5, Teheran-ro 19-gil, Gangnam-gu, Seoul 135-911 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0138371 30.11.2012 KR
Titre (EN) CONDUCTIVE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION
(KO) 전도성 기판 및 이의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a conductive substrate according to the present invention comprises the steps of: 1) forming a conductive pattern on a substrate; 2) forming a first darkened layer on at least one portion of the conductive pattern by means of electroplating; and 3) forming a second darkened layer on the at least one portion of the conductive pattern by submerging the conductive pattern in an acidic solution.
(FR)Un procédé de fabrication d'un substrat conducteur selon la présente invention comprend les étapes consistant : 1) à former un motif conducteur sur un substrat ; 2) à former une première couche assombrie sur au moins une partie du motif conducteur, par électroplacage ; et 3) à former une seconde couche assombrie sur ladite au moins une partie du motif conducteur, en immergeant le motif conducteur dans une solution acide.
(KO)본 발명에 따른 전도성 기판의 제조방법은, 1) 기재 상에 전도성 패턴을 형성하는 단계; 2) 전해도금을 수행하여, 상기 전도성 패턴 상의 적어도 일부의 영역에 제1 암색화층을 형성하는 단계; 및 3) 상기 전도성 패턴을 산화제 용액에 담침하여, 상기 전도성 패턴 상의 적어도 일부의 영역에 제2 암색화층을 형성하는 단계를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)