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1. (WO2014084557) COMPOSÉS DE PRÉCURSEUR DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM MINCE CONTENANT DU SILICIUM L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084557    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/010720
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 25.11.2013
CIB :
C07F 7/10 (2006.01), C07F 7/02 (2006.01), C23C 16/06 (2006.01)
Déposants : UP CHEMICAL CO., LTD. [KR/KR]; (Chilgoe-dong), 81, Sandan-ro 197beon-gil, Pyeongtaek-si Gyeonggi-do 459-050 (KR)
Inventeurs : HAN, Won Seok; (KR).
KOH, Won Yong; (KR)
Mandataire : MAPS INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; (Jeil Pharmaceutical Bldg., Banpo-dong), 4F, 343, Sapyoung-daero, Seocho-gu Seoul 137-810 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0135483 27.11.2012 KR
Titre (EN) SILICON PRECURSOR COMPOUNDS, AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM CONTAINING SILICON USING SAME
(FR) COMPOSÉS DE PRÉCURSEUR DE SILICIUM ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM MINCE CONTENANT DU SILICIUM L'UTILISANT
(KO) 실리콘 전구체 화합물 및 이를 이용한 실리콘-함유 박막의 증착 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to silicon precursor compounds and method for producing said silicon precursor compounds, to precursor compounds for depositing thin film containing silicon including the silicon precursor compounds, and to a method for depositing thin film containing silicon using said precursor compounds.
(FR)La présente invention concerne des composés de précurseur de silicium et un procédé de production desdits composés de précurseur de silicium, des composés de précurseur pour déposer un film mince contenant du silicium comprenant les composés de précurseur de silicium, et un procédé de dépôt de film mince contenant du silicium à l'aide desdits composés de précurseur.
(KO)본원은 실리콘 전구체 화합물 및 상기 실리콘 전구체 화합물의 제조 방법, 상기 실리콘 전구체 화합물를 포함하는 실리콘-함유 박막 증착용 전구체 조성물 및 상기 전구체 화합물을 이용한 실리콘-함유 박막의 증착 방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)