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1. (WO2014084297) DÉRIVÉ INÉDIT DE NORBORNÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084297    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/082009
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 28.11.2013
CIB :
C07D 303/14 (2006.01), C07D 301/14 (2006.01), C07D 303/16 (2006.01)
Déposants : JNC CORPORATION [JP/JP]; 2-1, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008105 (JP).
JNC PETROCHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 2-1, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventeurs : YAMADA, Hirotsuna; (JP).
KAWAMURA, Sakae; (JP)
Mandataire : KAWAGUCHI, Yoshiyuki; Acropolis 21 Building 6th floor, 4-10, Higashi Nihonbashi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-259723 28.11.2012 JP
Titre (EN) NOVEL NORBORNENE DERIVATIVE
(FR) DÉRIVÉ INÉDIT DE NORBORNÈNE
(JA) 新規ノルボルネン誘導体
Abrégé : front page image
(EN)The purpose is to provide a novel compound useful as a raw material for a resist material. A norbornene derivative having epoxy and a reactive group mediated by methylene in a norbornane skeleton, represented by formula I, where R1 represents a hydrogen atom, acryloyl group, methacryloyl group, or hydroxymethylacryloyl group, and R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms.
(FR)La présente invention concerne un composé inédit utilisable en tant que matière première pour résine photosensible. L'invention concerne, donc, un dérivé de norbornène possédant des groupes époxy et un groupe réactif à médiation par le méthylène dans un squelette norbornane, représenté par la formule I, dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe acryloyle, un groupe méthacryloyle ou un groupe hydroxyméthylacryloyle et R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle comportant de 1 à 4 atomes de carbone.
(JA) レジスト材料のための原料として有用な新規な化合物を提供することを課題とする。以下の式で表される、ノルボルナン骨格中にエポキシ、およびメチレンを介した反応性基を有するノルボルネン誘導体。 (式中、Rは水素原子、アクリロイル基、メタクリロイル基、又はヒドロキシメチルアクリロイル基を表し、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)