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1. (WO2014084228) APPAREIL D'ASPIRATION, PROCÉDÉ DE MISE À L'ARCHE, SYSTÈME DE TRANSPORT, DISPOSITIF D'EXPOSITION À LA LUMIÈRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084228    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081851
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 27.11.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
Inventeurs : ICHINOSE, Go; (JP).
IBE, Taisuke; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
61/731,573 30.11.2012 US
Titre (EN) SUCTION APPARATUS, CARRY-IN METHOD, CONVEYANCE SYSTEM, LIGHT EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) APPAREIL D'ASPIRATION, PROCÉDÉ DE MISE À L'ARCHE, SYSTÈME DE TRANSPORT, DISPOSITIF D'EXPOSITION À LA LUMIÈRE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
(JA) 吸引装置、搬入方法、搬送システム及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)In a conveyance system, a chuck unit (153) is used to hold a placed wafer (W) from above, and vertical-motion pins (140) use suction to hold said wafer (W) from below. The chuck unit (153) and the vertical-motion pins (140) are subsequently lowered until a bottom surface of the wafer comes into contact with a wafer table (WTB). During said lowering, the holding force exerted by the chuck unit (153) and the arrangement of chuck members (124) are optimally adjusted such that, as a result of the restraint of the wafer (W) by the chuck unit (153) and the vertical-motion pins (140), localized surplus-restraint is imparted to the wafer (W), and warping does not occur.
(FR)Selon l'invention, dans un système de transport, une unité de mandrin (153) est utilisée pour maintenir une tranche placée (W) par le dessus, et des broches à mouvement vertical (140) utilisent l'aspiration pour maintenir ladite tranche (W) par le dessous. L'unité de mandrin (153) et les broches à mouvement vertical (140) sont ensuite abaissées jusqu'à ce qu'une surface inférieure de la tranche vienne en contact avec une table de tranche (WTB). Durant ledit abaissement, la force de maintien exercée par l'unité de mandrin (153) et l'agencement d'éléments de serrage (124) sont ajustés de manière optimale de telle sorte que, du fait de la retenue de la tranche (W) par l'unité de mandrin (153) et les broches à mouvement vertical (140), une retenue à surplus localisé est appliquée à la tranche (W), et aucune déformation n'a lieu.
(JA) 搬送システムは、載置されたウエハ(W)を上方からチャックユニット(153)によって保持するとともに、下方から上下動ピン(140)によって吸着保持する。その後、ウエハの下面がウエハテーブル(WTB)に接触するまでチャックユニット(153)及び上下動ピン(140)を下降させる。その際、チャックユニット(153)と上下動ピン(140)とによるウエハ(W)の拘束によって、ウエハ(W)に局所的に過拘束が発生し、歪みが生じないように、チャックユニット(153)による保持力及びチャック部材(124)の配置を最適となるよう調整する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)