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1. (WO2014084172) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084172    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081657
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 25.11.2013
CIB :
H01J 37/04 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventeurs : OHNO Masaomi; (JP).
HIRANE Kenichi; (JP).
HOSOYA Kohtaro; (JP)
Mandataire : KASUGA Yuzuru; Torii-nihonbashi Bldg., 4-1, Nihonbashi-honcho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-258952 27.11.2012 JP
Titre (EN) CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a charged-particle beam device whereby it is possible to carry out an optical axis adjustment with good precision and without being affected by a degree of proficiency of an operator. A charged-particle beam device comprises: a detector which detects secondary charged particles which are obtained by a projection of a primary charged-particle beam upon a specimen; a display unit which, when an optical axis adjustment of the primary charged-particle beam is to be carried out, displays an image for optical axis adjustment (15a) which is obtained on the basis of the secondary charged particles which are detected with the detector; and a control unit which displays, so as to be adjacent to or overlap with the image for optical axis adjustment, magnification information which represents a magnification when carrying out the image adjustment of adjusting such that at least one parameter relating to image quality of the image for optical axis adjustment reaches a predetermined value. The magnification information represents the magnification by, for example, the relative positions of a reference axis (40) and an indication line (41).
(FR)L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées au moyen duquel il est possible de réaliser un réglage de l'axe optique avec une bonne précision et sans qu'il soit affecté par le degré de qualification d'un opérateur. Un dispositif à faisceau de particules chargées comporte: un détecteur qui détecte des particules chargées secondaires obtenues par projection d'un faisceau de particules chargées primaires sur un spécimen; une unité d'affichage qui, lorsqu'un réglage de l'axe optique du faisceau de particules chargées primaires doit être réalisé, affiche une image pour le réglage (15a) de l'axe optique qui est obtenue sur la base des particules chargées secondaires qui sont détectées à l'aide du détecteur; et une unité de commande qui affiche, de telle façon qu'elles soient adjacente à ou qu'elles se chevauchent avec l'image pour le réglage de l'axe optique, des informations de grossissement qui représentent un grossissement lors de la réalisation du réglage d'image consistant à régler de telle façon qu'au moins un paramètre se rapportant à la qualité de l'image pour le réglage de l'axe optique atteigne une valeur prédéterminée. Les informations de grossissement représentent le grossissement, par exemple, par les positions relatives d'un axe (40) de référence et d'une ligne (41) d'indication.
(JA) オペレータの熟練度に影響されずに精度良く光軸調整を行うことができる荷電粒子線装置を提供する。 一次荷電粒子線の試料への照射により得られる二次荷電粒子を検出する検出器と、前記一次荷電粒子線の光軸調整を行う際に、前記検出器で検出された二次荷電粒子に基づいて得られる光軸調整用画像(15a)を表示する表示部と、前記光軸調整用画像の画質に関する少なくとも1つのパラメータを予め定めた値となるように調整する画質調整を行う際の倍率を表す倍率情報を前記光軸調整用画像に隣接又は重畳するように表示する制御部とを備えた荷電粒子線装置。 前記倍率情報は、前記倍率を、例えば、基準となる軸線(40)と指示線(41)との相対位置により表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)