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1. (WO2014084127) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CHLORE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/084127    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/081458
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 15.11.2013
CIB :
C01B 7/04 (2006.01), B01J 23/46 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP)
Inventeurs : NISHIMOTO, Junichi; (JP)
Mandataire : NAKAYAMA, Tohru; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-259419 28.11.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING CHLORINE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CHLORE
(JA) 塩素の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing chlorine, in which a catalytic activity can be retained steadily for a long period even when hydrogen chloride and oxygen both containing a sulfur component are used, and an oxidation reaction can be maintained satisfactorily. A method for producing chlorine, which comprises bringing a mixed gas comprising hydrogen chloride, oxygen and a sulfur component into contact with supported ruthenium oxide comprising ruthenium oxide and silica both supported on a titania carrier to oxidize hydrogen chloride in the mixed gas with oxygen. In the method, the supported ruthenium oxide is one produced by carrying out a contact treatment of the titania carrier with an alkoxysilane compound, subsequently drying the resultant product under the flow of a water-vapor-containing gas, subsequently carrying out a first burning procedure under an oxidizing gas atmosphere, subsequently carrying out a contact treatment of the resultant solid in which silica is supported onto the titania carrier with a ruthenium compound, and subsequently carrying out a second burning procedure under an oxidizing gas atmosphere.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production de chlore, dans lequel une activité catalytique peut être maintenue en continu pendant une longue période même lorsque sont utilisées du chlorure d'hydrogène et de l'oxygène contenant tous deux un constituant soufré, et une réaction d'oxydation peut être maintenue de manière satisfaisante. Ledit procédé de production de chlore consiste à mettre en contact un gaz mixte comprenant du chlorure d'hydrogène, de l'oxygène et un constituant soufré avec de l'oxyde de ruthénium supporté comprenant de l'oxyde de ruthénium et de la silice tous deux supportés sur un transporteur à base de dioxyde de titane afin d'oxyder le chlorure d'hydrogène dans le gaz mixte avec l'oxygène. Dans le procédé, l'oxyde de ruthénium supporté est de l'oxyde de ruthénium produit en réalisant un traitement par contact entre le transporteur à base de dioxyde de titane et un composé alcoxysilane, puis en séchant le produit ainsi obtenu sous le flux d'un gaz contenant de la vapeur d'eau, puis en réalisant une première opération de combustion sous une atmosphère de gaz oxydant, puis en réalisant un traitement par contact entre le solide ainsi obtenu dans lequel la silice est supportée sur le transporteur à base de dioxyde de titane et un composé au ruthénium, et puis en réalisant une seconde opération de combustion sous une atmosphère de gaz oxydant.
(JA)硫黄成分を含む塩化水素や酸素を使用しても長時間にわたり安定して触媒活性が維持され、良好に酸化反応を継続できる塩素の製造方法を提供する。塩化水素、酸素及び硫黄成分を含む混合ガスを、酸化ルテニウム及びシリカがチタニア担体に担持されてなる担持酸化ルテニウムと接触させることにより、前記混合ガス中の塩化水素を酸素で酸化して塩素を製造する方法であって、前記担持酸化ルテニウムが、チタニア担体をアルコキシシラン化合物と接触処理した後、水蒸気含有ガス流通下で乾燥し、次いで酸化性ガス雰囲気下で第1の焼成を行い、得られたシリカがチタニア担体に担持されてなる固体をルテニウム化合物と接触処理した後、酸化性ガス雰囲気下で第2の焼成を行うことにより得られるものである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)