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1. (WO2014083938) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLECTRODE TRANSPARENTE ET ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/083938    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/076921
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 03.10.2013
CIB :
H05B 33/10 (2006.01), G02F 1/1343 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01), H05B 33/26 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : GOTO, Masaki; (JP).
TAKEDA, Akihiko; (JP).
MATSUMURA, Toshiyuki; (JP)
Mandataire : KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-259838 28.11.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT ELECTRODE AND ORGANIC EL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLECTRODE TRANSPARENTE ET ÉLÉMENT ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 透明電極の製造方法および有機EL素子
Abrégé : front page image
(EN)This method for producing a transparent electrode (1) comprises: a step wherein a metal conductive layer (4) is formed on a transparent resin substrate (2); a step wherein a composition that contains a conductive polymer and a non-conductive polymer is applied over the transparent resin substrate (2) and the metal conductive layer (4), thereby forming a polymer conductive layer (6); and a step wherein the polymer conductive layer (6) is irradiated with infrared light that has a ratio of the spectral radiance at a wavelength of 5.8 μm relative to the spectral radiance at a wavelength of 3.0 μm of 5% or less.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une électrode transparente (1) qui comprend : une étape dans laquelle une couche conductrice métallique (4) est formée sur un substrat en résine transparente (2) ; une étape dans laquelle une composition qui contient un polymère conducteur et un polymère non conducteur est appliquée sur le substrat de résine transparente (2) et la couche conductrice métallique (4), ce qui forme une couche conductrice polymère (6) ; et une étape dans laquelle la couche conductrice polymère (6) est irradiée avec une lumière infrarouge qui possède un rapport du rayonnement spectral à une longueur d'onde de 5,8 µm sur le rayonnement spectral à une longueur d'onde de 3,0 µm de 5 % ou moins.
(JA) 透明電極(1)の製造方法では、金属導電層(4)を透明樹脂基板(2)上に形成する工程と、導電性ポリマーと非導電性ポリマーとを含む組成物を、透明樹脂基板(2)および金属導電層(4)上に塗布し、ポリマー導電層(6)を形成する工程と、波長3.0μmの分光放射輝度に対する波長5.8μmの分光放射輝度の割合が5%以下である赤外線を、ポリマー導電層(6)に照射する工程と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)