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1. (WO2014083909) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UNE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À BASE D'OXYDE DE ZINC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/083909    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/074106
Date de publication : 05.06.2014 Date de dépôt international : 06.09.2013
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C04B 35/453 (2006.01)
Déposants : NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 2-56, Suda-Cho, Mizuho-Ku, Nagoya-Shi, Aichi 4678530 (JP)
Inventeurs : YOSHIKAWA Jun; (JP).
KONDO Koichi; (JP).
KANNO Koki; (JP).
IMAI Katsuhiro; (JP)
Mandataire : TAKAMURA Masaharu; Maxwell International IP Law Firm, Unity Forum II 3F, 1-4-1 Nerima, Nerima-ku, Tokyo 1760001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-263149 30.11.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ZINC OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UNE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE À BASE D'OXYDE DE ZINC
(JA) 酸化亜鉛系スパッタリングターゲットの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a high-density and low-resistance zinc oxide-based sputtering target. In this method, a dopant material containing alumina and/or boehmite having a specific surface area of 40-200 m2/g is added to a zinc oxide powder, the powder mixture is molded, and a molded article is obtained. The obtained molded article is sintered at a temperature of no less than 1300ºC and a zinc oxide-based sputtering target is obtained.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de fabriquer une cible de pulvérisation cathodique à base d'oxyde de zinc de densité élevée et de faible résistance. Dans ce procédé, un matériau dopant qui contient de l'alumine et/ou de la boehmite qui présente une surface spécifique comprise entre 40 et 200 m2/g est ajouté à une poudre d'oxyde de zinc, le mélange poudreux est moulé, et un article moulé est obtenu. L'article moulé obtenu est fritté à une température supérieure ou égale à 1 300 °C et une cible de pulvérisation cathodique à base d'oxyde de zinc est obtenue.
(JA) 高密度かつ低抵抗の酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを製造する方法が提供される。この方法においては、酸化亜鉛粉末に、比表面積が40~200m/gのアルミナ及び/又はベーマイトを含むドーパント材料を添加して混合粉末を成形して成形体を得る。得られた成形体を1300℃以上の温度で焼結させて酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを得る。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)